[發明專利]陣列基板及其制備方法、顯示裝置在審
| 申請號: | 202010081829.4 | 申請日: | 2020-02-06 |
| 公開(公告)號: | CN111180442A | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發明(設計)人: | 程鴻飛 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方技術開發有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02;H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 解婷婷;曲鵬 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,包括襯底以及設置于所述襯底上的第一靜電釋放單元,其特征在于,所述第一靜電釋放單元包括形成于所述襯底上的靜電釋放線、設置于所述靜電釋放線之上的有源層以及設置于所述有源層上的數據線,所述數據線與所述有源層連接,所述數據線至少部分與所述靜電釋放線交疊并間隔開,以形成第一電容。
2.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述第一靜電釋放單元還包括設置于所述有源層上的導電線段,所述導電線段與所述有源層連接,所述導電線段與所述數據線間隔開,所述導電線段至少部分與所述靜電釋放線交疊并間隔開,以形成第二電容。
3.根據權利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述導電線段一端與所述有源層連接,所述導電線段另一端懸浮設置。
4.根據權利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述導電線段與所述數據線同層設置。
5.根據權利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述第一靜電釋放單元還包括設置于所述數據線和所述導電線段之上的導電膜層,所述導電膜層與所述有源層交疊,所述導電膜層至少部分與所述數據線和所述導電線段分別交疊,以形成第三電容和第四電容。
6.根據權利要求5所述的陣列基板,其特征在于,所述導電膜層與所述數據線和所述導電線段之間設置有鈍化層。
7.根據權利要求5所述的陣列基板,其特征在于,所述導電膜層通過過孔與所述靜電釋放線連接。
8.根據權利要求5所述的陣列基板,其特征在于,所述導電膜層構成一整體結構,并與所述靜電釋放線對應。
9.根據權利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述襯底上設置有多條間隔排列的所述靜電釋放線,相鄰靜電釋放線之上的有源層共用所述導電線段。
10.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述第一靜電釋放單元還包括設置于所述靜電釋放線與所述有源層之間的絕緣層。
11.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述襯底上還設置有公共電極線,所述公共電極線與所述靜電釋放線電性連接。
12.根據權利要求11所述的陣列基板,其特征在于,所述公共電極線與所述靜電釋放線之間連接有第二靜電釋放單元。
13.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述襯底包括顯示區域以及圍繞所述顯示區域周圍的周邊區域,所述靜電釋放線位于所述周邊區域中。
14.一種顯示裝置,其特征在于,包括權利要求1-13中任意一項所述的陣列基板。
15.一種陣列基板的制備方法,其特征在于,包括:
在襯底上形成靜電釋放線;
在所述靜電釋放線上形成有源層;
在所述有源層上形成數據線,并使所述數據線至少部分與所述靜電釋放線交疊并間隔開,以形成第一電容。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





