[發(fā)明專利]硅蝕刻液以及使用該蝕刻液的硅器件的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010080739.3
• 申請(qǐng)日: 2020-02-05
• 公開（公告）號(hào): CN111518562A
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 清家吉貴;東野誠(chéng)司;小林健司;根來世
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社德山;株式會(huì)社斯庫(kù)林集團(tuán)
• 主分類號(hào): C09K13/00
• 分類號(hào): C09K13/00;C30B33/10;C30B29/06
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;樸秀玉

1.一種硅蝕刻液，是包含四烷基氫氧化銨、水的混合液，

所述硅蝕刻液包含下述式(1)所示的化合物，

R¹O－(C_mH_2mO)_n－R² (1)

式中，R¹為氫原子或碳原子數(shù)1～3的烷基，R²為氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基，m為整數(shù)2～6，n為1或2。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅蝕刻液，其中，

四烷基氫氧化銨的濃度為0.1～25質(zhì)量％，式(1)所示的化合物的濃度為0.1～20質(zhì)量％。

3.一種硅器件的制造方法，其包括對(duì)硅片、多晶硅膜、非晶硅膜進(jìn)行蝕刻的工序，其中，使用權(quán)利要求1或2所述的硅蝕刻液來進(jìn)行蝕刻。