[發(fā)明專利]陣列天線裝置及其制備方法和電子設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010077702.5
• 申請日: 2020-01-31
• 公開（公告）號: CN113206372A
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蔡渤
• 申請（專利權(quán)）人: 沐風(fēng)電子科技（西安）有限公司
• 主分類號: H01Q1/38
• 分類號: H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q21/00
• 代理公司: 成都恪睿信專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51303
• 代理人: 陳興強

1.一種陣列天線裝置，其特征在于，所述陣列天線裝置包括：

自上而下設(shè)有至少兩個襯底：第一襯底和第二襯底；

第一襯底上設(shè)置第一天線；

第二襯底上設(shè)置有第二天線；

所述第一天線設(shè)有多個呈陣列排布的陣元，所述第二天線設(shè)有多個呈陣列排布的陣元；

其中，所述第一天線的所有陣元與所述第二天線的所有陣元在所述第二襯底上的投影不完全重合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列天線裝置，其特征在于，所述第一天線的所有陣元關(guān)于所述第一襯底的幾何中心呈對稱分布，所述第二天線的所有陣元關(guān)于所述第二襯底的幾何中心呈對稱分布，所述第一襯底的幾何中心與所述第二襯底的幾何中心在所述第二襯底上的投影重合。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列天線裝置，其特征在于，所述第一天線各陣元的尺寸不同于所述第二天線各陣元的尺寸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列天線裝置，其特征在于，所述第一天線的所有陣元不關(guān)于所述第一襯底的幾何中心對稱分布，所述第二天線的所有陣元不關(guān)于所述第二襯底的幾何中心對稱分布，所述第一襯底的幾何中心與所述第二襯底的幾何中心在所述第二襯底上的投影重合。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列天線裝置，其特征在于，所述第一天線的每一行的各陣元在與自上而下的第一方向相垂直的第二方向上任意相鄰兩陣元之間的間距大小不等，所述第二天線的每一行的各陣元在所述第二方向上任意相鄰兩陣元之間的間距大小不等。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列天線裝置，其特征在于，所述第一天線的所有陣元的尺寸相同，所述第二天線的所有陣元的尺寸相同，且所述第一天線的各陣元的尺寸不同于所述第二天線各陣元的尺寸。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列天線裝置，其特征在于，所述第一天線的所有陣元在第一襯底的橫向和/或縱向上的相鄰兩陣元之間的間距隨著距離第一襯底的幾何中心的距離增大而逐漸增大，所述第二天線的所有陣元在第二襯底的橫向和/或縱向上的相鄰兩陣元之間的間距隨著距離第二襯底的幾何中心的距離增大而逐漸增大或逐漸減小。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列天線裝置，其特征在于，所述第一天線的所有陣元在第一襯底的橫向和/或縱向上的相鄰兩陣元之間的間距隨著距離第一襯底的幾何中心的距離增大而逐漸減小，所述第二天線的所有陣元在第二襯底的橫向和縱向上的相鄰兩陣元之間的間距隨著距離第二襯底的幾何中心的距離增大而逐漸增大或逐漸減小。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列天線裝置，其特征在于，所述第一天線的各陣元的寬度隨著距離第一襯底的幾何中心的距離增大而逐漸增大或逐漸減小，所述第二天線的各陣元的寬度隨著距離第二襯底的幾何中心的距離增大而逐漸增大或逐漸減小，且所述第一天線的各陣元的長度為第一預(yù)設(shè)值，所述第二天線的各陣元的長度為不同于所述第一預(yù)設(shè)值的第二預(yù)設(shè)值。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的陣列天線裝置，其特征在于，所述第一天線任意相鄰兩陣元的幾何中心之間的間距為第一指定值；所述第二天線任意相鄰兩陣元的幾何中心之間的間距為不同于所述第一指定值的第二指定值。

11.一種陣列天線裝置的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：

在第一襯底上形成第一天線，所述第一天線設(shè)有多個呈陣列排布的陣元；

在第二襯底上形成第二天線，所述第二天線設(shè)有多個呈陣列排布的陣元；

將所述第一襯底置于所述第二襯底上方；

其中，所述第一天線的所有陣元與所述第二天線的所有陣元在所述第二襯底上的投影不完全重合。

12.一種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備包括權(quán)利要求1至10任一項所述的陣列天線裝置。