[發明專利]一種顯示面板的制備方法

在審

• 申請號: 202010069744.4
• 申請日: 2020-01-21
• 公開（公告）號: CN111244331A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發明（設計）人: 朱穎暉;劉建立;姜海峰;金躍康;王傳俊
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/52
• 代理公司: 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

1.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，包括：

在顯示面板的發光像素層上制備第一無機層；

確定所述第一無機層遠離所述發光像素層的表面存在缺陷的第一缺陷區域；

去除掉位于所述第一缺陷區域的第一無機層以形成第一缺口；

在所述第一缺口重新制備所述第一無機層。

2.根據權利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述在所述第一缺口重新制備所述第一無機層后，還包括：

在所述第一無機層遠離所述發光像素層的一側依次制備有機層和第二無機層；

確定所述第二無機層遠離所述發光像素層的表面存在缺陷的第二缺陷區域；

去除掉位于所述第二缺陷區域的第二無機層以形成第二缺口；

在所述第二缺口重新制備所述第二無機層。

3.根據權利要求2所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，在所述去除掉位于所述第二缺陷區域的第二無機層以形成第二缺口之后，且所述在所述第二缺口重新制備所述第二無機層之前，還包括：

利用惰性氣體吹掃所述第二缺口。

4.根據權利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，在所述去除掉位于所述第一缺陷區域的第一無機層以形成第一缺口之后，且所述在所述第一缺口重新制備所述第一無機層之前，還包括：

利用惰性氣體吹掃所述第一缺口。

5.根據權利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述確定所述第一無機層遠離所述發光像素層的表面存在缺陷的第一缺陷區域，包括：

獲取所述第一無機層遠離所述發光像素層的表面的圖像；

根據所述圖像確定缺陷所在位置；

依據所述缺陷所在位置確定所述第一缺陷區域。

6.根據權利要求5所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述根據所述圖像確定缺陷所在位置，包括：

根據所述圖像的對比度確定所述缺陷所在位置。

7.根據權利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述去除掉位于所述第一缺陷區域的第一無機層以形成第一缺口，包括：

確定位于所述第一缺陷區域的第一無機層的面積大小；

獲取開口區域的面積不小于所述第一缺陷區域的面積的掩膜版；

利用所述掩膜版去除掉位于所述第一缺陷區域的第一無機層以形成第一缺口。

8.根據權利要求7所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，在所述獲取開口區域的面積不小于所述第一缺陷區域的面積的掩膜版之后，且所述利用所述掩膜版去除掉位于所述第一缺陷區域的第一無機層以形成第一缺口之前，還包括：

移動所述掩膜版以使所述掩膜版的開口區域對準所述第一缺陷區域；

或者，

移動所述顯示面板以使所述掩膜版的開口區域對準所述第一缺陷區域。

9.根據權利要求7所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述利用所述掩膜版去除掉位于所述第一缺陷區域的第一無機層以形成第一缺口，包括：

利用所述掩膜版采用干法刻蝕工藝，去除掉所述第一缺陷區域的第一無機層以形成所述缺口。

10.根據權利要求9所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述干法刻蝕工藝包括氟化物等離子體刻蝕工藝。