[發明專利]連續流反應模塊、反應裝置及填塊

在審

• 申請號: 202010063837.6
• 申請日: 2020-01-20
• 公開（公告）號: CN111111602A
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發明（設計）人: 楊凱;楊勇;寧萌;周在國
• 申請（專利權）人: 南通微著智能科技有限公司
• 主分類號: B01J19/24
• 分類號: B01J19/24
• 代理公司: 濟南幫友知識產權代理事務所(普通合伙) 37269
• 代理人: 王永建

1.一種連續流反應模塊，其特征在于：包括外管體和交替地固定在該外管體內腔中的多個填塊一和填塊二；所述填塊一、填塊二的側壁與外管體的內壁接觸；所述填塊一的端面上設有與所述外管體的管腔走向一致的至少一個通孔；所述填塊二的側壁上設有與所述外管體的管腔走向一致的多個槽。

2.根據權利要求1所述的連續流反應模塊，其特征在于：所述填塊一的兩端面均呈球面槽狀；所述填塊二的兩端面亦均呈球面槽狀。

3.根據權利要求1或2所述的連續流反應模塊，其特征在于：所述填塊一上設有一個通孔且該通孔的軸線處于所述填塊一的軸心處。

4.根據權利要求3所述的連續流反應模塊，其特征在于：于所述填塊二側壁上所設槽的延伸方向在垂直面上的投影與所述填塊二的軸心線相交叉，或者于所述填塊二側壁上所設槽為螺旋槽。

5.根據權利要求1或2所述的連續流反應模塊，其特征在于：所述填塊一上設有多個通孔，其中一個通孔的軸線處于所述填塊一的軸心處，其他通孔分布設置在所述填塊一的軸心外圍，或者所有的通孔均設在所述填塊一的軸心外圍。

6.根據權利要求5所述的連續流反應模塊，其特征在于：被設在所述填塊一軸心外圍的通孔的軸線相對所述填塊一的軸向傾斜且處于下游的一端靠向所述填塊一的軸心處。

7.根據權利要求1或2所述的連續流反應模塊，其特征在于：于所述填塊二側壁上所設槽的延伸方向在垂直面上的投影與所述填塊二的軸心線相交叉，或者于所述填塊二側壁上所設槽為螺旋槽。

8.根據權利要求7所述的連續流反應模塊，其特征在于：所述填塊一上設有多個通孔，其中一個通孔的軸線處于所述填塊一的軸心處，其他通孔分布設置在所述填塊一的軸心外圍，或者所有的通孔均設在所述填塊一的軸心外圍。

優選地，被設在所述填塊一軸心外圍的通孔的軸線相對所述填塊一的軸向傾斜且處于下游的一端靠向所述填塊一的軸心處。

9.一種連續流反應裝置，其特征為，包含有權利要求1至8中所涉及的連續流反應模塊。

10.一種填塊，其特征在于：所述填塊的上、下端面均呈球面槽狀，同時，所述填塊的端面上設有沿軸向的至少一個通孔或者所述填塊的側壁上設有與軸向走向一致的多個槽。優選地，所述填塊上設有一個通孔且該通孔的軸線處于所述填塊的軸心處；于所述填塊側壁上所設槽的延伸方向在垂直面上的投影與填塊的軸心線相交叉或為螺旋槽。