[發明專利]光源裝置及投影設備在審
| 申請號: | 202010060192.0 | 申請日: | 2020-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN113138523A | 公開(公告)日: | 2021-07-20 |
| 發明(設計)人: | 陳晨;胡飛;莫美妮;李屹 | 申請(專利權)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G03B21/20 | 分類號: | G03B21/20;G02B27/10;G02B27/14 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永強 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區粵*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光源 裝置 投影設備 | ||
本申請提供一種光源裝置,包括:光源,用于發射第一激發光;波長轉換裝置,所述波長轉換裝置包括波長轉換區段和非波長轉換區段,所述波長轉換區段吸收所述第一激發光并出射受激光,所述非波長轉換區段接收所述第一激發光后出射第二激發光;合光裝置,置于所述光源與所述波長轉換裝置之間,用于將所述第一激發光引導至所述波長轉換裝置,還用于將所述波長轉換裝置出射的所述受激光及所述第二激發光引導出射;光學擴展量控制組件,用于將所述受激光及所述第二激發光的擴展量進行控制,所述光學擴展量控制組件包括非球面透鏡;和/或光束調整元件,置于所述光源的出射光路上,用于對所述第一激發光進行調整。還提供一種投影設備。
技術領域
本申請涉及光學技術領域,具體涉及一種光源裝置及投影設備。
背景技術
光學擴展量是非成像光學中的重要概念,用于描述具有一定孔徑角和截面積的光束的幾何特性,定義為光束所通過的面積和光束所占立體角的積分,即
Etendue≡n2∫∫cosθdAdΩ
其中θ是面積微元,dA為法線與立體角微元,dΩ為中心軸之間的夾角。對于不考慮散射、吸收造成能量損失的理想光學系統中,光束經光學系統后光學擴展量保持守恒。它度量了當光束通過光學系統時光束源面積和立體角擴散這兩者之間的變化。光束角越大或者光束源面積越大,得到的光學擴展量越大。在光束在光學系統中逐步變大的過程叫做擴展量稀釋。
光學擴展量的稀釋意味著更大的光斑面積或者更大的發散角度。激光束和熒光光束在傳輸過程中光斑面積都會隨著距離的增長而增大,從而使光學擴展量稀釋。光學擴展量稀釋會帶來一系列問題,比如:更大的光斑面積要求光學元件和光學系統體積變大,更大的發散角度要求光學元件(尤其是鏡頭)和光學系統F#(F數)變小,都會使得光學系統加工難度提高并且成本升高。因此光學設計中總是希望盡可能保持光學擴展量維持守恒。
發明內容
針對上述問題,本申請提供一種光源裝置及投影設備,可以減弱光學擴展量稀釋。
本申請提供了一種光源裝置,包括:光源,用于發射第一激發光;波長轉換裝置,所述波長轉換裝置包括波長轉換區段和非波長轉換區段,所述波長轉換區段吸收所述第一激發光并出射受激光,所述非波長轉換區段接收所述第一激發光后出射第二激發光;合光裝置,置于所述光源與所述波長轉換裝置之間,用于將所述第一激發光引導至所述波長轉換裝置,還用于將所述波長轉換裝置出射的所述受激光及所述第二激發光引導出射;光學擴展量控制組件,用于將所述受激光及所述第二激發光的擴展量進行控制,所述光學擴展量控制組件包括非球面透鏡;和/或光束調整元件,置于所述光源的出射光路上,用于對所述第一激發光進行調整。
本申請還提供一種投影設備,包括光調制裝置及前述的光源裝置。
本申請實施例的光源裝置及投影設備通過光學擴展量控制組件或者光束調制元件對受激光及第二激發光或者第一激發光進行角度校正,以避免光束在傳播過程中光學擴展量變大。
附圖說明
為了更清楚地說明本申請實施例的技術方案,下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是本申請第一實施例提供的光源裝置的結構示意圖。
圖2是本申請第一實施例提供的光源裝置的結構示意圖,其中所述光學擴散量控制組件的透鏡數量為三個。
圖3是本申請第二實施例提供的光源裝置的結構示意圖。
圖4是本申請第二實施例提供的光源裝置中的正負透鏡減小入射激發光的光束直徑的原理示意圖。
圖5是本申請第三實施例提供的光源裝置的結構示意圖。
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