[發明專利]靜電吸附部的控制方法和等離子體處理裝置

在審

• 申請號: 202010053070.9
• 申請日: 2020-01-17
• 公開（公告）號: CN111446144A
• 公開（公告）日: 2020-07-24
• 發明（設計）人: 玉蟲元
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本發明提供一種靜電吸附部的控制方法和等離子體處理裝置，提供一種能夠適當地進行上部的電極板的溫度調整的技術。用于使電極板吸附于在等離子體處理裝置的上部設置的被進行了溫度控制的板上,靜電吸附部的控制方法包括以下工序：在通過等離子體處理裝置生成等離子體的等離子體生成期間和不通過等離子體處理裝置生成等離子體的空閑期間中的至少空閑期間，對靜電吸附部的第一電極和第二電極施加相互不同的極性的電壓。

技術領域

本公開的示例性實施方式涉及一種靜電吸附部的控制方法和等離子體處理裝置。

背景技術

專利文獻1公開了在等離子體處理裝置的上部電極上吸附電極板的構造。靜電吸附部夾在電極板和接觸電極板的板之間。靜電吸附部為陶瓷制，經由夾具固定在板的下表面。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2015-216261號公報

發明內容

發明要解決的問題

本公開提供一種能夠適當地進行上部的電極板的溫度調整的技術。

用于解決問題的方案

在一個示例性實施方式中，提供用于使電極板吸附于板的靜電吸附部的控制方法，該板設置于等離子體處理裝置的上部并被進行了溫度控制。該控制方法包括施加電壓的工序。在施加電壓的工序中，在等離子體生成期間和空閑期間中的至少空閑期間，對靜電吸附部的第一電極和第二電極施加相互不同的極性的電壓。在等離子體生成期間，通過等離子體處理裝置生成等離子體。在空閑期間，不通過等離子體處理裝置生成等離子體。

發明的效果

根據一個示例性實施方式，能夠適當地進行上部的電極板的溫度調整。

附圖說明

圖1是概要性地示出一個示例性實施方式所涉及的等離子體處理裝置的圖。

圖2是一個示例性實施方式所涉及的上部電極的截面圖。

圖3是一個示例性實施方式所涉及的上部電極的截面圖。

圖4是一個示例性實施方式所涉及的上部電極的截面圖。

圖5是概要性地示出第一電極和第二電極的布局的一例的圖。

圖6是示出遮蔽構造的一例的局部放大圖。

圖7是示出遮蔽構造的其它例的局部放大圖。

圖8是示出遮蔽構造的其它例的局部放大圖。

圖9是示出遮蔽構造的其它例的局部放大圖。

圖10是示出遮蔽構造的其它例的局部放大圖。

圖11是示出遮蔽構造的其它例的局部放大圖。

圖12是概要性地示出一個示例性實施方式所涉及的方法的圖。

圖13是說明雙極方式的吸附的一例的圖。

圖14是說明單極方式的吸附的一例的圖。

圖15是示出施加到第一電極及第二電極的電壓與時間的關系的一例的曲線圖。

圖16是示出施加到第一電極及第二電極的電壓與時間的關系的一例的曲線圖。

圖17是示出施加到第一電極及第二電極的電壓與時間的關系的一例的曲線圖。