[發(fā)明專利]一種新型紫外-部分可見光波段的濾光器件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010045450.8 | 申請日： | 2020-01-16 |
| 公開（公告）號： | CN111175875A | 公開（公告）日： | 2020-05-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 閆培光;張夢羽;陳浩;郭凱;尹金德 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳大學 |
| 主分類號： | G02B5/22 | 分類號： | G02B5/22;G02B1/14 |
| 代理公司： | 重慶市信立達專利代理事務(wù)所(普通合伙) 50230 | 代理人： | 陳炳萍 |
| 地址： | 518060 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 新型 紫外 部分 可見光 波段 濾光 器件 | ||
1.一種新型紫外-部分可見光波段的濾光器件，其特征在于，包括：目標襯底、二維材料薄膜層和材料保護層，所述二維材料薄膜層覆蓋在所述目標襯底上，所述材料保護層覆蓋在所述二維材料薄膜層上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型紫外-部分可見光波段的濾光器件，其特征在于：所述目標襯底為剛性襯底或柔性襯底，所述柔性襯底包括高分子聚合物材料，所述剛性襯底包括光學基底。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型紫外-部分可見光波段的濾光器件，其特征在于：所述二維材料薄膜層包括多層納米片薄膜，所述納米片薄膜的厚度為3nm-50nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型紫外-部分可見光波段的濾光器件，其特征在于：所述的保護層材料是三氧化二鋁、二氧化硅中的任意一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型紫外-部分可見光波段的濾光器件，其特征在于：所述二維材料薄膜層的制備包括以下步驟：
S11：獲取硒化鍺塊體并研磨成粉末后通過超聲輔助的液相剝離方法得到納米片原液；
S12：將所述納米片原液通過高速離心后得到尺寸厚度均勻的納米片；
S13：通過真空抽濾裝置把所述納米片制備成均勻的材料薄膜；
S14：將所述材料薄膜轉(zhuǎn)移到帶有抽濾膜的所述目標襯底上，并將所述抽濾膜充分溶解掉，得到納米片薄膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型紫外-部分可見光波段的濾光器件，其特征在于：所述二維材料薄膜層的制備包括以下步驟：
S21：獲取硒化鍺塊體并研磨成粉末后通過超聲輔助的液相剝離方法得到納米片原液；
S22：將所述納米片原液通過高速離心后得到尺寸厚度均勻的納米片；
S23：將所述目標襯底固定在旋涂機上，1500-10000rpm轉(zhuǎn)速下將所述納米片原液重復(fù)旋涂在所述目標襯底上，沉積形成一層均勻的納米片薄膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型紫外-部分可見光波段的濾光器件，其特征在于：所述二維材料薄膜層的制備包括以下步驟：
S31：獲取硒化鍺塊體并研磨成粉末后通過超聲輔助的液相剝離方法得到納米片原液；
S32：將所述納米片原液通過高速離心后得到尺寸厚度均勻的納米片；
S33：將所述納米片原液與PVA(聚乙烯醇)溶解液混合均勻，將得到的混合液滴涂到所述目標襯底上并使其固化成膜，得到納米片薄膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型紫外-部分可見光波段的濾光器件，其特征在于：所述二維材料薄膜層的制備包括以下步驟：
S41：獲取硒化鍺塊體并研磨成粉末后通過超聲輔助的液相剝離方法得到納米片原液；
S42：將所述納米片原液通過高速離心后得到尺寸厚度均勻的納米片；
S43：采用壓電式噴墨打印方法將所述納米片原液沉積在所述目標襯底上，得到納米片薄膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型紫外-部分可見光波段的濾光器件，其特征在于：所述材料保護層的制備方法為，使用磁控濺射沉積技術(shù)在所述二維材料薄膜層表面均勻地沉積一層三氧化二鋁薄膜保護層，所述材料保護層的厚度在50nm-500nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型紫外-部分可見光波段的濾光器件，其特征在于：所述液相剝離的溶劑為去離子水或者異丙醇；所述抽濾膜的孔徑大小為100nm。
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