[發(fā)明專(zhuān)利]基板處理裝置的清洗方法和基板處理裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010038164.9
• 申請(qǐng)日: 2020-01-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111463096A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-07-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 竹澤由裕;鈴木大介;林寬之;藤田成樹(shù);宮原達(dá)也;有賀純史;菊地晉哉
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): H01J37/32
• 分類(lèi)號(hào): H01J37/32
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種基板處理裝置的清洗方法，包括清洗用于對(duì)處理容器的內(nèi)部進(jìn)行排氣的排氣管的內(nèi)部的工序，

清洗所述排氣管的內(nèi)部的工序包括如下工序：

在關(guān)閉設(shè)置于所述排氣管的中途的開(kāi)閉閥的狀態(tài)下，向所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠下游側(cè)的部分供給包括氟的第一排氣管清洗氣體，由此通過(guò)所述第一排氣管清洗氣體去除所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠下游側(cè)的部分的沉積物；以及

在打開(kāi)所述開(kāi)閉閥的狀態(tài)下，向所述處理容器的內(nèi)部供給不包括氟來(lái)作為氣體構(gòu)成元素的第二排氣管清洗氣體，由此通過(guò)所述第二排氣管清洗氣體去除所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠上游側(cè)的部分的沉積物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置的清洗方法，其特征在于，

還包括如下工序：向所述處理容器的內(nèi)部供給含有除了氟以外的鹵素來(lái)作為氣體構(gòu)成元素的處理容器清洗氣體，由此清洗所述處理容器的內(nèi)部，

清洗所述排氣管的內(nèi)部的工序?yàn)槿コ谇逑此鎏幚砣萜鞯膬?nèi)部的工序中沉積于所述排氣管的內(nèi)部的沉積物的工序。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置的清洗方法，其特征在于，

在清洗所述處理容器的內(nèi)部的工序之后，實(shí)施通過(guò)所述第一排氣管清洗氣體來(lái)去除所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠下游側(cè)的部分的沉積物的工序，之后，實(shí)施通過(guò)所述第二排氣管清洗氣體來(lái)去除所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠上游側(cè)的部分的沉積物的工序。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置的清洗方法，其特征在于，

所述排氣管在通過(guò)所述第一排氣管清洗氣體來(lái)去除所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠下游側(cè)的部分的沉積物的工序中的溫度、比所述排氣管在通過(guò)所述第二排氣管清洗氣體來(lái)去除所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠上游側(cè)的部分的沉積物的工序中的溫度低。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的基板處理裝置的清洗方法，其特征在于，

所述處理容器在通過(guò)所述第一排氣管清洗氣體來(lái)去除所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠下游側(cè)的部分的沉積物的工序中的溫度、比所述處理容器在通過(guò)所述第二排氣管清洗氣體來(lái)去除所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠上游側(cè)的部分的沉積物的工序中的溫度低。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置的清洗方法，其特征在于，

在所述排氣管的清洗中被去除的沉積物為包括硅和鍺中的至少一個(gè)及除了氟以外的鹵素的化合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置的清洗方法，其特征在于，

所述第二排氣管清洗氣體為從氫氣體與氧氣體的混合氣體、氨氣體、以及氧氣體中選擇出的一種以上的氣體。

8.一種基板處理裝置，具備：

處理容器；

排氣管，其對(duì)所述處理容器的內(nèi)部進(jìn)行排氣；

開(kāi)閉閥，其設(shè)置于所述排氣管的中途；

第一排氣管清洗氣體供給機(jī)構(gòu)，其向所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠下游側(cè)的部分供給包括氟的第一排氣管清洗氣體；

第二排氣管清洗氣體供給機(jī)構(gòu)，其向所述處理容器供給不包括氟來(lái)作為氣體構(gòu)成元素的第二排氣管清洗氣體；以及

控制部，其控制所述開(kāi)閉閥、所述第一排氣管清洗氣體供給機(jī)構(gòu)以及所述第二排氣管清洗氣體供給機(jī)構(gòu)，

其中，所述控制部在關(guān)閉所述開(kāi)閉閥的狀態(tài)下，向所述排氣管的下游側(cè)供給所述第一排氣管清洗氣體，由此通過(guò)所述第一排氣管清洗氣體來(lái)去除所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠下游側(cè)的部分的沉積物，

所述控制部在打開(kāi)所述開(kāi)閉閥的狀態(tài)下，向所述處理容器的內(nèi)部供給所述第二排氣管清洗氣體，由此通過(guò)所述第二排氣管清洗氣體來(lái)去除所述排氣管的比所述開(kāi)閉閥靠上游側(cè)的部分的沉積物。