[發(fā)明專利]一種抗菌口罩及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010020459.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111096499A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-05-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊晟堯;孔洋波;林路云;張捷;李思賢 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江邁實(shí)科技有限公司;嘉興邁之新材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | A41D13/11 | 分類號(hào): | A41D13/11 |
| 代理公司: | 北京聯(lián)瑞聯(lián)豐知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 陳引 |
| 地址: | 310051 浙江省杭州市濱江區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 抗菌 口罩 及其 制備 方法 | ||
1.一種抗菌口罩,其特征在于,包括口罩本體(1);所述口罩本體包括外層(11)、中間層(12)和內(nèi)層(13),所述中間層(12)含有光觸媒,所述外層(11)為疏松多孔的材質(zhì),所述多孔材質(zhì)由多條纖維(14)交織而成;所述外層(11)上設(shè)置有多個(gè)反光片(15),所述反光片(15)粘結(jié)于所述纖維(14)上,所述發(fā)光片(14)的寬度不寬于所述纖維(14)的直徑,且所述反光片(15)的反光面朝向中間層(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述抗菌口罩,其特征在于,所述口罩還包括鼻梁夾(2)和耳帶(3)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述抗菌口罩,其特征在于,所述內(nèi)層(13)包括多層紗布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述抗菌口罩,其特征在于,所述反光片(14)為納米二氧化硅。
5.一種權(quán)利要求1所述抗菌口罩的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1.外層的制備
S11.將纖維通過(guò)浸泡入膠黏劑中,再通過(guò)還有納米二氧化硅的容器;
S12.將步驟S11處理之后的纖維紡織成布料;
S2.中間層的制備
S21.將紡織物浸入濃度為1~3mol/L的硫酸溶液中2~4h;
S22.將步驟S21處理之后的紡織物浸入濃度為1~2mg/mL的氧化石墨烯水溶液中,煮沸1~2h之后烘干;
S23.將納米二氧化鈦和分散劑溶于無(wú)水乙醇中,納米二氧化鈦和分散劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)均為0.1%~1%;
S24.將步驟S23制備的納米二氧化鈦溶液涂覆在步驟S22處理之后的織物上,然后進(jìn)行烘干固化,重復(fù)涂覆、烘干固化2~4次;
S3.以步驟S1的外層和步驟S2的中間層制作成口罩。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述抗菌口罩的制備方法,其特征在于,所述步驟S23中,納米二氧化碳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.2%~0.6%。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述抗菌口罩的制備方法,其特征在于,所述步驟S3中分散劑為聚甲基丙烯酸銨、聚乙二醇、聚乙烯醇、丙烯酸中的一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述抗菌口罩的制備方法,其特征在于,所述步驟S24中,重復(fù)涂覆、烘干固化3次。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于浙江邁實(shí)科技有限公司;嘉興邁之新材料科技有限公司,未經(jīng)浙江邁實(shí)科技有限公司;嘉興邁之新材料科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010020459.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





