[發明專利]基于氣相滴定法的臭氧校準儀在審
| 申請號： | 202010010723.5 | 申請日： | 2020-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN111089860A | 公開（公告）日： | 2020-05-01 |
| 發明（設計）人： | 敖小強;潘本鋒;姜加龍 | 申請（專利權）人： | 北京雪迪龍科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/76 | 分類號： | G01N21/76;G01N21/64;G01N31/16 |
| 代理公司： | 北京律和信知識產權代理事務所(普通合伙) 11446 | 代理人： | 張羽;謝清萍 |
| 地址： | 102206 北京市昌*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 滴定法 臭氧 校準 | ||
1.一種基于氣相滴定法的臭氧校準儀，其特征在于，包括：
第一反應室，包括第一一氧化氮入口、第一臭氧入口、第一氣體出口和通光孔；
熒光探測器，所述熒光探測器的探測部分與所述通光孔相連；
第一氣泵，與所述第一氣體出口連接；
第二反應室，包括第二一氧化氮入口、第二臭氧入口和第二氣體出口，所述第二氣體出口與所述第一一氧化氮入口連接；
標準一氧化氮氣路，用于向所述第一反應室、所述第二反應室提供一氧化氮；
第一臭氧發生氣路，與所述第一臭氧入口連接，用于向所述第一反應室提供過量臭氧；
第二臭氧發生氣路，與所述第二臭氧入口連接，用于向所述第二反應室提供臭氧標準氣體；
所述第一臭氧發生氣路提供的過量臭氧濃度大于所述第二臭氧發生氣路提供的臭氧標準氣體濃度。
2.根據權利要求1所述的臭氧校準儀，其特征在于，所述標準一氧化氮氣路通過所述第二反應室連接所述第一反應室的第一一氧化氮入口。
3.根據權利要求1所述的臭氧校準儀，其特征在于，還包括處理氣路，設置于所述第一反應室的第一氣體出口和所述第一氣泵之間。
4.根據權利要求3所述的臭氧校準儀，其特征在于，所述處理氣路包括除臭氧裝置。
5.根據權利要求1所述的臭氧校準儀，其特征在于，第一臭氧發生氣路包括連接的第一臭氧發生裝置和第一限流裝置。
6.根據權利要求5所述的臭氧校準儀，其特征在于，所述第一臭氧發生裝置為高壓放電裝置。
7.根據權利要求1所述的臭氧校準儀，其特征在于，第二臭氧發生氣路包括依次連接的第二氣泵、第二臭氧發生裝置、兩通閥和第二限流裝置。
8.根據權利要求7所述的臭氧校準儀，其特征在于，所述第二臭氧發生裝置為低壓汞燈裝置。
9.根據權利要求1所述的臭氧校準儀，其特征在于，標準一氧化氮氣路包括連接的一氧化氮標準氣發生裝置和第三限流裝置。
10.根據權利要求1所述的臭氧校準儀，其特征在于，還包括標準臭氧氣路，所述標準臭氧氣路包括連接的第四限流裝置和臭氧標準氣體出口，所述第四限流裝置與所述第二臭氧發生裝置連接。
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