[發明專利]壓力平衡裝置在審
| 申請號： | 202010008259.6 | 申請日： | 2020-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN113073307A | 公開（公告）日： | 2021-07-06 |
| 發明（設計）人： | 向洪春;陳長榮 | 申請（專利權）人： | 上海思擎企業管理合伙企業（有限合伙） |
| 主分類號： | C23C16/455 | 分類號： | C23C16/455;C23C16/44;C30B25/14 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 200000 上海市閔*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 壓力 平衡 裝置 | ||
1.一種壓力平衡裝置，其特征在于，包括：
主路管道，包括第一進氣口和第一出氣口，所述第一出氣口與反應腔連通；
廢氣管道，包括第二進氣口和第二出氣口；
至少一個反應氣體管道，每個所述反應氣體管道包括第三進氣口和第三出氣口，所述第三出氣口分別與第一支路和第二支路連接，所述第一支路和所述主路管道連接，所述第一支路內設置有主路閥，所述第二支路和所述廢氣管道連接，所述第二支路內設置有旁通閥；
壓力傳感器，設置在所述主路管道內，用于檢測所述主路管道內的壓力；
壓力控制器，與所述壓力傳感器連接，設置在所述廢氣管道內，用于控制所述廢氣管道內的壓力以使得所述廢氣管道內的壓力與所述主路管道內的壓力始終保持平衡。
2.根據權利要求1所述的壓力平衡裝置，其特征在于，所述壓力傳感器設置在所述反應氣體管道的上游。
3.根據權利要求1所述的壓力平衡裝置，其特征在于，所述壓力控制器設置在所述廢氣管道內靠近所述第二出氣口的一端，且位于所述反應氣體管道的下游。
4.根據權利要求1所述的壓力平衡裝置，其特征在于，所述主路管道內設置有第一氣體流量計，所述第一氣體流量計用于控制所述主路管道內的氣體流量。
5.根據權利要求4所述的壓力平衡裝置，其特征在于，所述第一氣體流量計設置在所述主路管道內靠近所述第一進氣口的一端，且位于所述壓力傳感器的上游。
6.根據權利要求1所述的壓力平衡裝置，其特征在于，所述廢氣管道內設置有第二氣體流量計，所述第二氣體流量計用于控制所述廢氣管道內的氣體流量。
7.根據權利要求6所述的壓力平衡裝置，其特征在于，所述第二氣體流量計設置在所述廢氣管道內靠近所述第二進氣口的一端。
8.根據權利要求1所述的壓力平衡裝置，其特征在于，所述反應氣體管道內設置有第三氣體流量計，所述第三氣體流量計用于控制所述反應氣體管道內的氣體流量。
9.根據權利要求8所述的壓力平衡裝置，其特征在于，所述第三氣體流量計設置在所述反應氣體管道內靠近所述第三進氣口的一端。
10.根據權利要求1-9中任一項所述的壓力平衡裝置，其特征在于，所述反應氣體管道有三個。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
