[發明專利]等離子體產生裝置及等離子體處理方法

在審

• 申請號: 201980101498.1
• 申請日: 2019-10-22
• 公開（公告）號: CN114586473A
• 公開（公告）日: 2022-06-03
• 發明（設計）人: 巖田卓也
• 申請（專利權）人: 株式會社富士
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 楊青;安翔

等離子體產生裝置具備：裝置主體，形成有用于使處理氣體等離子體化的反應室；至少一個排出通路，與反應室連接；擴散室，與至少一個排出通路連接；及多個噴出通路，與擴散室連接，且噴出在上述反應室中被等離子體化的等離子體氣體，在這多個噴出通路中的至少一個噴出通路的朝向擴散室的開口形成有錐面。

技術領域

本發明涉及從噴出通路噴出等離子體氣體的等離子產生裝置等。

背景技術

在等離子體產生裝置中存在有在反應室中使處理氣體等離子體化并將被等離子體化后的等離子體氣體從形成于噴嘴的噴出通路噴出的構造的等離子體產生裝置。在下述專利文獻中記載了這樣的等離子體產生裝置的一個例子。

現有技術文獻

專利文獻1：日本特開2001-068298號公報

發明內容

發明所要解決的課題

本說明書的課題在于提高從噴出通路噴出等離子體氣體的構造的等離子產生裝置的實用性。

用于解決課題的技術方案

為了解決上述課題，本說明書公開了一種等離子體產生裝置，其具備：裝置主體，形成有用于使處理氣體等離子體化的反應室；至少一個排出通路，與上述反應室連接；擴散室，與上述至少一個排出通路連接；及多個噴出通路，與上述擴散室連接，且噴出在上述反應室中被等離子體化的等離子體氣體，在上述多個噴出通路中的至少一個噴出通路的朝向上述擴散室的開口形成有錐面。

另外，本說明書公開了一種等離子體產生裝置，其具備：裝置主體，形成有用于使處理氣體等離子體化的反應室；及噴嘴，安裝于上述裝置主體，噴出在上述反應室中被等離子體化的等離子體氣體，上述裝置主體具有用于將在上述反應室中被等離子體化的等離子體氣體向上述裝置主體的外部排出的排出通路，上述噴嘴具有：擴散室，形成為覆蓋上述排出通路的朝向上述裝置主體的外壁面的開口；及多個噴出通路，用于經由上述擴散室而噴出等離子體氣體，上述多個噴出通路噴出在上述反應室中被等離子體化的等離子體氣體，在這些上述多個噴出通路中的一個以上的噴出通路的朝向上述擴散室的開口形成有錐面。

另外，本說明書公開了一種等離子體處理方法，其被用于等離子體產生裝置，上述等離子體產生裝置具備：裝置主體，形成有用于使處理氣體等離子體化的反應室；及噴嘴，安裝于上述裝置主體，噴出在上述反應室中被等離子體化的等離子體氣體，上述裝置主體具有用于將在上述反應室中被等離子體化的等離子體氣體向上述裝置主體的外部排出的排出通路，上述噴嘴具有：擴散室，形成為覆蓋上述排出通路的朝向上述裝置主體的外壁面的開口；及多個噴出通路，用于經由上述擴散室而噴出等離子體氣體，上述多個噴出通路噴出在上述反應室中被等離子體化的等離子體氣體，在上述多個噴出通路中的一個以上的噴出通路的朝向上述擴散室的開口形成有錐面，上述等離子體處理方法將從上述多個噴出通路噴出的等離子體氣體向被處理體照射。

發明效果

根據本公開，通過在噴出通路的朝向擴散室的開口形成錐面，例如，即使在異物附著于該開口的情況下，該開口也不容易被異物堵塞。由此，能夠確保等離子體氣體從噴出通路的噴出，能夠提高從噴出通路噴出等離子體氣體的構造的等離子產生裝置的實用性。

附圖說明

圖1是表示等離子體裝置的圖。

圖2是表示等離子體頭的立體圖。

圖3是在電極及主體側等離子體通路的位置在X方向及Z方向上切斷等離子體頭的剖視圖。

圖4是圖3中的AA線處的剖視圖。

圖5是圖3的放大剖視圖。

圖6是安裝有與圖3的噴嘴不同的噴嘴的等離子體頭的剖視圖。

具體實施方式