[發明專利]使用主/復制陣列進行空間檢測的方法在審
| 申請號: | 201980091989.2 | 申請日: | 2019-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN113439124A | 公開(公告)日: | 2021-09-24 |
| 發明(設計)人: | P·肖 | 申請(專利權)人: | 10x基因組學有限公司 |
| 主分類號: | C12Q1/6837 | 分類號: | C12Q1/6837;C12Q1/6841 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 陳揚揚;錢文宇 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 使用 復制 陣列 進行 空間 檢測 方法 | ||
1.一種在基材上產生捕獲探針陣列的方法,該方法包括:
提供包括多個孔的基材,所述多個孔中的孔具有凹陷表面;
將掩模施加到基材的不對應于所述多個孔的一個或多個區域;和
將多個捕獲探針施加到多個孔中的孔,其中多個捕獲探針中的捕獲探針包含對于所述孔而言獨特的條形碼,從而使捕獲探針的一端固定在所述孔的凹陷表面上。
2.根據權利要求1所述的方法,其中將多個捕獲探針施加到孔包括光刻。
3.根據權利要求1或2所述的方法,還包括在將多個捕獲探針施加于孔之前將多個引物施加于孔。
4.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中所述捕獲探針包含對于所述孔而言獨特的條形碼。
5.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中所述捕獲探針包含裂解域、捕獲域、功能域、獨特分子標識符或其組合中的至少一個。
6.根據權利要求4所述的方法,其中,條形碼包括第一部分和第二部分,并且其中,所述陣列的同一行中的捕獲探針包括條形碼的相同的第一部分,并且其中,所述陣列的同一列中的捕獲探針包括條形碼的相同的第二部分。
7.根據權利要求5所述的方法,其中,條形碼在所述條形碼的第一部分和第二部分之間包含其它核苷酸。
8.根據權利要求1所述的方法,其中,孔中捕獲探針的密度為約800/μm2至10,000/μm2。
9.根據權利要求1或8所述的方法,其中,所述孔包含約10,000至300,000個捕獲探針。
10.根據權利要求1、8或9中任一項所述的方法,其中所述孔具有20pL至500μL的體積。
11.根據權利要求1或8-10中任一項所述的方法,其中所述孔具有0.5μm至10μm的深度。
12.根據權利要求1或8-11中任一項所述的方法,其中所述孔具有0.5μm至10μm的在由基材表面限定的平面中測量的最大截面尺寸。
13.根據權利要求1或8-12中任一項所述的方法,其中所述孔包括圓柱形、杯形、底切或圓錐形。
14.根據權利要求1或8-13中任一項所述的方法,其中,所述基材上的多個孔的密度為約100個孔/mm2至1x104個孔/mm2。
15.根據權利要求1所述的方法,其中所述孔在由所述基材表面限定的平面中測量的最大截面尺寸為0.5μm至10μm,并且包括約10,000至30,000個捕獲探針。
16.基材上的捕獲探針陣列,該陣列包括:
包括多個孔的基材,所述多個孔中的孔包括具有多個固定的捕獲探針的凹陷表面,其中多個固定的捕獲探針包括共約10,000個至約300,000個的捕獲探針,并且其中捕獲探針包含對于所述孔而言獨特的條形碼,并且
其中,孔具有在由基材的表面限定的平面中測量的約0.5μm至約10μm的最大截面尺寸。
17.如權利要求16所述的陣列,其中,所述孔包括圓柱形、杯形、底切或圓錐形。
18.根據權利要求16或17所述的陣列,其中,所述基材上的多個孔的密度為約100個孔/mm2至1x104個孔/mm2。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于10x基因組學有限公司,未經10x基因組學有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201980091989.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:電子隱形眼鏡中的動態老視矯正
- 下一篇:電動機驅動裝置以及制冷環路應用設備





