[發(fā)明專利]多束檢查裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980087246.8 | 申請日: | 2019-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN113614873A | 公開(公告)日: | 2021-11-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 任偉明;張乾;胡學(xué)讓;劉學(xué)東 | 申請(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/147 | 分類號: | H01J37/147 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 趙林琳 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢查 裝置 | ||
公開了微結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)器陣列(622),微結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)器陣列(622)包括多個多極結(jié)構(gòu)(622?1至622?47)。微偏轉(zhuǎn)器的偏轉(zhuǎn)器陣列包括具有距陣列中心軸線第一徑向偏移的第一多極結(jié)構(gòu)(622?26、……622?47)以及具有距陣列中心軸線第二徑向偏移的第二多極結(jié)構(gòu)(622?1)。第一徑向偏移大于第二徑向偏移,并且第一多極結(jié)構(gòu)包括比第二多極結(jié)構(gòu)更多數(shù)量的極電極,以在多個多極結(jié)構(gòu)將多個帶電粒子束偏轉(zhuǎn)時減少偏轉(zhuǎn)像差。微結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)器陣列可以被包含在多束檢查裝置的改進(jìn)的源轉(zhuǎn)換單元中。
本申請要求于2018年12月31日提交的美國申請62/787,157的優(yōu)先權(quán),該申請通過整體引用并入本文。
技術(shù)領(lǐng)域
本文中提供的實施例總體上涉及多束檢查裝置,并且更具體地涉及包括改進(jìn)的源轉(zhuǎn)換單元的多束檢查裝置。
背景技術(shù)
在制造半導(dǎo)體集成電路(IC)芯片時,在制造過程期間,晶片或掩模上不可避免地會出現(xiàn)圖案缺陷或異物粒子(殘留物),從而降低產(chǎn)率。例如,對于具有較小關(guān)鍵特征尺寸的圖案,異物粒子可能會帶來麻煩,而較小關(guān)鍵特征尺寸已被采用來滿足IC芯片越來越先進(jìn)的性能要求。
具有帶電粒子束的圖案檢查工具已被用于檢測缺陷或異物粒子。這些工具通常采用掃描電子顯微鏡(SEM)。在SEM中,具有相對高能量的初級電子束被減速,以相對低的著陸能量落在樣本上并且被聚焦以在其上形成探測點。由于初級電子的該聚焦探測點,次級電子將從表面生成。次級電子可以包括由初級電子與樣本的相互作用產(chǎn)生的反向散射電子、次級電子或俄歇電子。通過掃描樣本表面之上的探測點并收集次級電子,圖案檢查工具可以獲得樣本表面的圖像。
發(fā)明內(nèi)容
本文提供的實施例公開了粒子束檢查裝置,并且更具體地公開了使用多個帶電粒子束的檢查裝置。
在一些實施例中,檢查裝置中的微結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)器陣列包括多個多極結(jié)構(gòu),每個多極結(jié)構(gòu)包括多個極電極。微偏轉(zhuǎn)器陣列包括:多個多極結(jié)構(gòu)中的第一多極結(jié)構(gòu),第一多極結(jié)構(gòu)具有距陣列中心軸線的第一徑向偏移;以及多個多極結(jié)構(gòu)中的第二多極結(jié)構(gòu),第二多極結(jié)構(gòu)具有距陣列中心軸線的第二徑向偏移。第一徑向偏移大于第二徑向偏移。此外,第一多極結(jié)構(gòu)包括比第二多極結(jié)構(gòu)更多數(shù)量的極電極,以在多個多極結(jié)構(gòu)將多個帶電粒子束偏轉(zhuǎn)時,減少偏轉(zhuǎn)像差。
在一些實施例中,微結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)器陣列可以包括多極結(jié)構(gòu)的一個或多個層。多個多極結(jié)構(gòu)的第一層包括具有距陣列中心軸線的第一徑向偏移的第一多極結(jié)構(gòu)以及具有距陣列中心軸線的第二徑向偏移的第二多極結(jié)構(gòu)。第一徑向偏移大于第二徑向偏移。此外,第一多極結(jié)構(gòu)包括比第二多極結(jié)構(gòu)更多數(shù)量的極電極,以減少對應(yīng)帶電粒子束的偏轉(zhuǎn)像差。微結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)器陣列還包括多個多極結(jié)構(gòu)的第二多極結(jié)構(gòu)層,第二多極結(jié)構(gòu)層包括具有距陣列中心軸線的第三徑向偏移的第三多極結(jié)構(gòu)。
在一些實施例中,提供了制造微結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)器陣列的方法。微結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)器陣列包括多個多極結(jié)構(gòu)并且每個多極結(jié)構(gòu)包括多個極電極。方法包括將第一多極結(jié)構(gòu)形成為距陣列中心軸線具有第一徑向偏移。方法還包括將第二多極結(jié)構(gòu)形成為距陣列中心軸線具有第二徑向偏移,其中第一徑向偏移大于第二徑向偏移并且第一多極結(jié)構(gòu)具有與第二多極結(jié)構(gòu)不同數(shù)量的極電極。
通過結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述,本發(fā)明的其他優(yōu)點將變得顯而易見,在附圖中通過例示和示例的方式闡述了本發(fā)明的某些實施例。
附圖說明
通過結(jié)合附圖對示例性實施例的描述,本公開的上述和其他方面將變得更加明顯。
圖1是圖示了與本公開的實施例一致的示例性帶電粒子束檢查系統(tǒng)的示意圖。
圖2是圖示了與本公開的實施例一致的作為圖1的示例性帶電粒子束檢查系統(tǒng)的一部分的示例性多束裝置的示意圖。
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