[發明專利]多束檢查裝置在審
| 申請號: | 201980087246.8 | 申請日: | 2019-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN113614873A | 公開(公告)日: | 2021-11-05 |
| 發明(設計)人: | 任偉明;張乾;胡學讓;劉學東 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/147 | 分類號: | H01J37/147 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 趙林琳 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢查 裝置 | ||
1.一種微結構偏轉器陣列,所述微結構偏轉器陣列包括多個多極結構,每個多極結構包括多個極電極,所述陣列包括:
所述多個多極結構中的多極結構的第一組,多極結構的所述第一組具有距所述陣列的中心軸線的徑向偏移的第一集合,其中所述第一組中的每個多極結構包括相同數量的對應極電極;以及
所述多個多極結構中的多極結構的第二組,多極結構的所述第二組具有距所述陣列的中心軸線的徑向偏移的第二集合,其中所述第二組中的每個多極結構包括相同數量的對應極電極,
其中所述第一組中的多極結構包括比所述第二組中的多極結構更多數量的極電極,并且其中所述第一組和所述第二組中的每一者包括一個或多個多極結構。
2.根據權利要求1所述的陣列,其中徑向偏移的所述第一集合中的徑向偏移的最小值高于徑向偏移的所述第二集合中的徑向偏移的最大值。
3.根據權利要求1所述的陣列,其中所述多個多極結構被配置為基本上同時偏轉多個帶電粒子束。
4.根據權利要求3所述的陣列,其中多極結構的所述第一組包括:
多極結構的第一子組,被電連接到第一驅動器并由所述第一驅動器驅動,其中多極結構的所述第一子組的徑向偏移和取向角度基本相等。
5.根據權利要求4所述的陣列,其中多極結構的所述第二組包括:
多極結構的第二子組,被電連接到第二驅動器并由所述第二驅動器驅動,其中多極結構的所述第二子組的徑向偏移和取向角度基本相等。
6.根據權利要求5所述的陣列,其中所述第一驅動器和所述第二驅動器中的驅動器被配置為使得對應的多極結構能夠偏轉多束裝置中的所述多個帶電粒子束,并且其中所述多個多極結構還被配置作為所述多束裝置中的成像元件或預彎曲微偏轉器。
7.根據權利要求1所述的陣列,其中所述第一組中的多極結構具有的內徑大于所述第二組中的多極結構的內徑。
8.根據權利要求3所述的陣列,其中所述第一組和所述第二組被布置在所述陣列的第一層中,并且其中所述陣列還包括第二層,所述第二層包括多極結構的第三組,多極結構的所述第三組具有距所述陣列的所述中心軸線的第三徑向偏移。
9.根據權利要求8所述的陣列,其中所述第三徑向偏移不同于徑向偏移的所述第一集合或徑向偏移的所述第二集合。
10.根據權利要求8所述的陣列,其中所述第三多極結構的極電極的數量不同于或等于多極結構的所述第一組中的多極結構的極電極的數量。
11.根據權利要求8所述的陣列,其中所述多個帶電粒子束中的一個帶電粒子束被所述第一層中的多極結構偏轉,并且所述多個帶電粒子束中的另一個帶電粒子束被所述第二層中的多極結構偏轉。
12.根據權利要求8所述的陣列,其中所述多個帶電粒子束中的一個帶電粒子束被串聯的所述第一層中的多極結構和所述第二層中的多極結構偏轉,并且所述第一層中的所述多極結構和所述第二層中的所述多極結構彼此對準。
13.根據權利要求8所述的陣列,其中:
所述多個帶電粒子束中的第一射束被所述第一層中的多極結構偏轉并且不被所述第二層中的任何多極結構偏轉,
所述多個帶電粒子束中的第二射束被所述第二層中的多極結構偏轉并且不被所述第二層中的任何多極結構偏轉,以及
所述多個帶電粒子束中的第三射束被串聯的所述第一層中的多極結構和所述第二層中的多極結構偏轉。
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