[發(fā)明專(zhuān)利]氣體噴嘴和氣體噴嘴的制造方法以及等離子體處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980077166.4
• 申請(qǐng)日: 2019-11-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113165139B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 野口幸雄;左橋知也
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 京瓷株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): B24B31/00
• 分類(lèi)號(hào): B24B31/00;C04B35/50;H01L21/3065;H01L21/31;B05B15/18
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳克鵬

本發(fā)明的氣體噴嘴具備引導(dǎo)氣體的管狀的供給孔、和連接于該供給孔的噴射孔，是由該噴射孔噴射所述氣體的、以稀土元素的氧化物、氟化物或氧氟化物或以釔鋁復(fù)合氧化物為主成分的陶瓷或單晶所形成的氣體噴嘴，其中，形成所述供給孔的內(nèi)周面的算術(shù)平均粗糙度Ra，所述氣體的流出側(cè)一方比流入側(cè)小。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及氣體噴嘴和等離子體處理裝置。

背景技術(shù)

歷來(lái)，在半導(dǎo)體、液晶制造中的蝕刻和成膜等的各工序中，利用等離子體對(duì)被處理物實(shí)施處理。在此工序中，會(huì)使用含有反應(yīng)性高的氟系、氯系等鹵族元素的腐蝕性氣體。因此，用于半導(dǎo)體、液晶制造裝置的與腐蝕性氣體和其等離子體接觸的構(gòu)件，要求有高耐腐蝕性。作為這樣的構(gòu)件，在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中提出有一種Y₂O₃燒結(jié)體氣體噴嘴，其中，腐蝕性氣體流通的內(nèi)表面是燒成狀態(tài)的面，曝露在腐蝕性氣體或腐蝕性氣體的等離子體下的外表面被粗糙化。該外表面的粗糙化由噴丸處理形成。

在專(zhuān)利文獻(xiàn)2中記載有一種氣體噴嘴，其以氧化釔為主成分，將經(jīng)由CIP成形法得到的成形體，在大氣氣氛中以1400℃以上且1700℃以下進(jìn)行燒成后，通過(guò)磨削加工形成貫通孔而成。而且，在專(zhuān)利文獻(xiàn)2中，在圖2中顯示，貫通孔由管狀的供給孔和連接于供給孔的噴射孔構(gòu)成，噴射孔與供給孔相比為短徑。

在先技術(shù)文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2007－63595號(hào)公報(bào)

專(zhuān)利文獻(xiàn)2：國(guó)際公開(kāi)2013/065666號(hào)公報(bào)

如專(zhuān)利文獻(xiàn)1所示，通過(guò)由研磨粒子進(jìn)行的噴丸處理而使外表面粗糙化而成的氣體噴嘴，進(jìn)入到氣體噴嘴的貫通孔內(nèi)的研磨粒子容易固著在內(nèi)表面。因此，若腐蝕性氣體在貫通孔內(nèi)通過(guò)，則存在該研磨粒子重新成為微粒而浮置于等離子體空間的問(wèn)題。

專(zhuān)利文獻(xiàn)2所示的氣體噴嘴，在從供給孔流入噴射孔的附近，氣體的通風(fēng)阻力上升。于是，伴隨該通風(fēng)阻力的上升，有可能微粒從形成供給孔的內(nèi)周面發(fā)生，浮置在等離子體空間。此外，若供給孔細(xì)長(zhǎng)化，則還有難以通過(guò)磨削加工形成供給孔的問(wèn)題。

另一方面，近來(lái)，伴隨半導(dǎo)體的高集成化，半導(dǎo)體的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的微細(xì)化推進(jìn)，內(nèi)存配線(xiàn)寬度例如變窄至10nm以下。若內(nèi)存配線(xiàn)寬度處于10nm以下，則至今未引起注意的、直徑為0.2μm以下的微細(xì)的粒子會(huì)對(duì)內(nèi)存配線(xiàn)和半導(dǎo)體元件造成損傷。伴隨這樣的問(wèn)題，就必須減少比從專(zhuān)利文獻(xiàn)1和2所提出的氣體噴嘴中發(fā)生的微粒更微細(xì)的粒子的發(fā)生。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明其目的在于，提供一種可以減少微細(xì)的粒子的發(fā)生，特別是減少在氣體從供給孔流入噴射孔的附近的微細(xì)的粒子發(fā)生的氣體噴嘴和等離子體處理裝置。

本發(fā)明的氣體噴嘴具備：引導(dǎo)氣體的管狀的供給孔；和連接于該供給孔的噴射孔，是由該噴射孔噴射所述氣體的、由以稀土元素的氧化物、氟化物或氧氟化物，或者以釔鋁復(fù)合氧化物為主成分的陶瓷或單晶所形成的氣體噴嘴，其中，形成所述供給孔的內(nèi)周面的算術(shù)平均粗糙度Ra，與所述氣體的流入側(cè)相比，流出側(cè)的一方小。

本發(fā)明的氣體噴嘴的制造方法，包括：對(duì)于以稀土元素的氧化物、氟化物或氧氟化物，或者以釔鋁復(fù)合氧化物為主成分的顆粒進(jìn)行加壓成形而得到成形體的工序；對(duì)于所述成形體實(shí)施切削加工，得到形成有供給孔用導(dǎo)孔和噴射孔用導(dǎo)孔的前驅(qū)體的工序；燒成所述前驅(qū)體而得到燒結(jié)體的工序；通過(guò)磨粒流研磨法對(duì)所述燒結(jié)體的至少形成所述供給孔的內(nèi)周面進(jìn)行研磨的工序。