[發明專利]靜電過濾器以及使用靜電過濾器控制離子束的方法

在審

• 申請號: 201980076390.1
• 申請日: 2019-10-31
• 公開（公告）號: CN113169009A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 亞歷山大·利坎斯奇;法蘭克·辛克萊;常勝武
• 申請（專利權）人: 應用材料股份有限公司
• 主分類號: H01J37/147
• 分類號: H01J37/147;H01J37/08;H01J37/317
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 馬爽;臧建明

1.一種設備，包括：

主腔室，所述主腔室包括多個電極；

入口隧道，所述入口隧道具有延伸至所述主腔室中的入口軸線；以及

出口隧道，連接至所述主腔室且界定出口軸線，其中所述入口軸線及所述出口軸線界定束彎曲，所述束彎曲在所述入口軸線與所述出口軸線之間為至少30度。

2.根據權利要求1所述的設備，其中所述多個電極以不對稱配置布置。

3.根據權利要求2所述的設備，其中所述多個電極界定束路徑，其中所述束路徑的第一側上設置有第一電極且其中所述束路徑的第二側上設置有至少三個電極。

4.根據權利要求3所述的設備，其中所述束路徑的所述第一側上設置有僅一個電極。

5.根據權利要求1所述的設備，其中所述入口隧道沿所述主腔室的第一側設置，且其中所述出口隧道沿所述主腔室的與所述主腔室的所述第一側相鄰的第二側設置。

6.根據權利要求1所述的設備，還包括等離子體泛射式電子槍，所述等離子體泛射式電子槍包括所述出口隧道，其中所述多個電極自所述等離子體泛射式電子槍的外部不可見。

7.根據權利要求1所述的設備，其中所述入口隧道被設置成沿所述主腔室的第一側進入所述主腔室，且其中所述出口隧道沿所述主腔室的與所述主腔室的所述第一側相對的第二側設置。

8.一種離子植入機，包括：

離子源，用于產生離子束；以及

靜電過濾器模塊，被設置成接收所述離子束，且包括：

主腔室，所述主腔室包括多個電極；

入口隧道，所述入口隧道具有沿第一方向延伸至所述主腔室中的入口軸線；以及

出口隧道，連接至所述主腔室且界定出口軸線，其中所述入口軸線及所述出口軸線界定束彎曲，所述束彎曲在所述入口軸線與所述出口軸線之間為至少30度。

9.根據權利要求8所述的離子植入機，其中所述多個電極界定束路徑，其中所述束路徑的第一側上設置有第一電極且其中所述束路徑的第二側上設置有至少三個電極。

10.根據權利要求9所述的離子植入機，其中所述束路徑的所述第一側上設置有僅一個電極。

11.根據權利要求8所述的離子植入機，其中所述入口隧道沿所述主腔室的第一側設置，且其中所述出口隧道沿所述主腔室的與所述主腔室的所述第一側相鄰的第二側設置。

12.根據權利要求8所述的離子植入機，還包括等離子體泛射式電子槍，所述等離子體泛射式電子槍包括所述出口隧道，其中所述多個電極自所述等離子體泛射式電子槍的外部不可見。

13.根據權利要求8所述的離子植入機，其中所述束彎曲在40度至90度之間。

14.一種靜電過濾器模塊，包括：

主腔室，所述主腔室包括以不對稱配置布置的多個電極；

入口隧道，所述入口隧道具有沿第一方向延伸至所述主腔室中的入口軸線；以及

等離子體泛射式電子槍，所述等離子體泛射式電子槍界定出口隧道，所述出口隧道連接至所述主腔室且界定出口軸線，其中所述入口軸線及所述出口軸線界定在所述入口軸線與所述出口軸線之間為至少30度的束彎曲。

15.根據權利要求14所述的靜電過濾器，其中所述入口隧道沿所述主腔室的第一側設置，且其中所述出口隧道沿所述主腔室的與所述主腔室的所述第一側相鄰的第二側設置。