[發(fā)明專利]用于通過增材制造來制造光學(xué)鏡片的方法以及對(duì)應(yīng)的中間光學(xué)元件

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980064335.0
• 申請(qǐng)日: 2019-09-24
• 公開（公告）號(hào): CN112805152B
• 公開（公告）日: 2023-01-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A·古羅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 依視路國際公司
• 主分類號(hào): G02C7/02
• 分類號(hào): G02C7/02;B29D11/00;B29C64/106;B29C64/393;B29C64/188;B29L11/00;B33Y80/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 牛南輝;姜利芳

一種用于通過增材制造來制造光學(xué)鏡片(1)的方法，包括以下步驟：?沉積具有第一厚度(h₂₇₁)的第一層(271)，?將具有第二厚度(h₂₇₃)的第二層(273)沉積到所述第一層(271)上，所述第二層(273)與所述第一層(271)形成第一微凸體(331)，?沉積具有第三厚度(h₂₇₅)的第三層(275)，?將具有第四厚度(h₂₇₇)的第四層(277)沉積到所述第三層(275)上，由此形成中間光學(xué)元件(5)，所述第四層(277)與所述第三層(275)形成第二微凸體(333)，?對(duì)所述中間光學(xué)元件(5)上的所述第一微凸體(331)和所述第二微凸體(333)進(jìn)行光滑處理，由此形成所述光學(xué)鏡片(1)，其中，所述第二厚度(h₂₇₃)和所述第四厚度(h₂₇₇)不同。還描述了對(duì)應(yīng)的中間光學(xué)元件。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)鏡片的制造。

更確切地說，本發(fā)明涉及一種用于通過增材制造來制造光學(xué)鏡片的方法。

本發(fā)明還涉及一種通過增材制造來制造的中間光學(xué)元件。

背景技術(shù)

使用增材制造技術(shù)來制造光學(xué)鏡片是令人感興趣的，因?yàn)樗@得的光學(xué)鏡片被直接成形為配適要支承其的鏡架和/或所獲得的光學(xué)鏡片符合配戴者的眼科處方。

需要精確地進(jìn)行增材制造過程；特別是需要將新層非常準(zhǔn)確地定位在已經(jīng)聚合的層上，以正確地制造光學(xué)鏡片。

這種技術(shù)的主要缺點(diǎn)是，由于由各層的邊緣所形成的微凸體，所獲得的制品不具有良好的表面質(zhì)量。

在增材制造中，有兩種主要方法可用于改善鏡片的表面質(zhì)量。第一種方法是減小層的厚度，從而使微凸體最小化；然而，由于必須沉積更多的層，因此此方法增加了制造時(shí)間。第二種方法是通過拋光微凸體來對(duì)鏡片表面進(jìn)行后處理；然而，精確拋光會(huì)增加制造時(shí)間。

需要找到一種在不增加制造時(shí)間的情況下生產(chǎn)具有良好表面質(zhì)量的光學(xué)鏡片的方法。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種用于通過增材制造來制造光學(xué)鏡片的方法，該方法包括以下步驟：

-沉積具有第一厚度的第一層，

-將具有第二厚度的第二層沉積到所述第一層上，所述第二層與所述第一層形成第一微凸體，

-沉積具有第三厚度的第三層，

-將具有第四厚度的第四層沉積到所述第三層上，由此形成中間光學(xué)元件，所述第四層與所述第三層形成第二微凸體，

-對(duì)所述中間光學(xué)元件上的所述第一微凸體和所述第二微凸體進(jìn)行光滑處理，由此形成所述光學(xué)鏡片。

根據(jù)本發(fā)明，所述第二厚度和所述第四厚度不同。

通常，微凸體的光滑處理不僅取決于其厚度(取決于層的厚度)，還取決于其在所述中間光學(xué)元件中的位置。通常，位于中間光學(xué)元件的外周的微凸體比位于其頂點(diǎn)的微凸體更容易且更快地去除。

因此，對(duì)于各層具有相同厚度的中間光學(xué)元件，在外周處比在中心處將更快地實(shí)現(xiàn)光滑處理。光滑處理步驟則必須考慮此差異。這可能是復(fù)雜的過程并且增加了制造時(shí)間。

在此，每個(gè)層的厚度是基于所述層在所述中間光學(xué)元件中的位置并且為了簡化光滑處理步驟來確定的。

例如，通過使外周附近的層更厚并且使頂點(diǎn)附近的層更薄，可以以相同的速率去除所有的微凸體。由于本發(fā)明的方法，簡化了所述光滑處理步驟，并減少了制造時(shí)間。

根據(jù)本發(fā)明的方法的其他有利的且非限制性的特征包括：

-所述層中的每個(gè)層的厚度基于相關(guān)層在所述中間光學(xué)元件中的位置來確定，