[發(fā)明專利]化合物、和包含其的組合物、以及抗蝕圖案的形成方法和絕緣膜的形成方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980055556.1
• 申請日: 2019-08-21
• 公開（公告）號: CN112639021A
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 佐藤隆;越后雅敏;牧野島高史
• 申請（專利權(quán)）人: 三菱瓦斯化學(xué)株式會社
• 主分類號: C08L61/04
• 分類號: C08L61/04;C07C39/367;C07C69/712;C07C69/96;C08G8/00;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種組合物，其包含多酚化合物(B)，

所述多酚化合物(B)為選自由下述式(1)所示的化合物和具有下述式(2)所示的結(jié)構(gòu)的樹脂組成的組中的1種以上，

式(1)中，R^Y為氫原子、任選具有取代基的碳數(shù)1～30的烷基或任選具有取代基的碳數(shù)6～30的芳基；

R^Z為任選具有取代基的碳數(shù)1～60的N價的基團(tuán)或單鍵；

R^T各自獨(dú)立地為任選具有取代基的碳數(shù)1～30的烷基、任選具有取代基的碳數(shù)6～30的芳基、任選具有取代基的碳數(shù)2～30的烯基、任選具有取代基的碳數(shù)2～30的炔基、任選具有取代基的碳數(shù)1～30的烷氧基、鹵原子、硝基、氨基、羧酸基、交聯(lián)性基團(tuán)、解離性基團(tuán)、硫醇基或羥基，其中，R^T中的至少1者包含交聯(lián)性基團(tuán)、解離性基團(tuán)或羥基，所述烷基、所述芳基、所述烯基、所述炔基、所述烷氧基任選包含醚鍵、酮鍵或酯鍵；

其中，R^Z包含至少2個碘原子；

X為氧原子、硫原子或為無橋接；

m各自獨(dú)立地為0～9的整數(shù)，其中，m中的至少1個為1～9的整數(shù)；

r各自獨(dú)立地為0～2的整數(shù)，其中，r中的至少1個為1～2的整數(shù)；

N為1～4的整數(shù)，其中，N為2以上的整數(shù)的情況下，N個[]內(nèi)的結(jié)構(gòu)式任選相同或不同，

式(2)中，L為任選具有取代基的碳數(shù)1～30的亞烷基、任選具有取代基的碳數(shù)6～30的亞芳基、任選具有取代基的碳數(shù)1～30的亞烷氧基或單鍵，所述亞烷基、所述亞芳基、所述亞烷氧基任選包含醚鍵、酮鍵或酯鍵；

R^Y為氫原子、任選具有取代基的碳數(shù)1～30的烷基或任選具有取代基的碳數(shù)6～30的芳基；

R^Z為任選具有取代基的碳數(shù)1～60的N價的基團(tuán)或單鍵；

R^T各自獨(dú)立地為任選具有取代基的碳數(shù)1～30的烷基、任選具有取代基的碳數(shù)6～30的芳基、任選具有取代基的碳數(shù)2～30的烯基、任選具有取代基的碳數(shù)2～30的炔基、任選具有取代基的碳數(shù)1～30的烷氧基、鹵原子、硝基、氨基、羧酸基、交聯(lián)性基團(tuán)、解離性基團(tuán)、硫醇基或羥基，其中，R^T中的至少1者包含交聯(lián)性基團(tuán)、解離性基團(tuán)或羥基，所述烷基、所述芳基、所述烯基、所述炔基、所述烷氧基任選包含醚鍵、酮鍵或酯鍵；

其中，R^Z包含至少2個碘原子；

X為氧原子、硫原子或為無橋接；

m各自獨(dú)立地為0～9的整數(shù)，其中，m中的至少1個為1～9的整數(shù)；

r各自獨(dú)立地為0～2的整數(shù)，其中，r中的至少1個為1～2的整數(shù)；

N為1～4的整數(shù)，其中，N為2以上的整數(shù)的情況下，N個[]內(nèi)的結(jié)構(gòu)式任選相同或不同。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其中，還含有基材(A)，所述基材(A)為選自由苯酚酚醛清漆樹脂、甲酚酚醛清漆樹脂、羥基苯乙烯樹脂、(甲基)丙烯酸類樹脂、羥基苯乙烯-(甲基)丙烯酸類共聚物、環(huán)烯烴-馬來酸酐共聚物、環(huán)烯烴、乙烯基醚-馬來酸酐共聚物、和具有金屬元素的無機(jī)抗蝕材料、以及它們的衍生物組成的組中的1種以上。