[發明專利]襯底支撐件、光刻設備、襯底檢查設備、器件制造方法在審
| 申請號: | 201980055297.2 | 申請日: | 2019-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN112602021A | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發明(設計)人: | J·P·M·B·弗穆倫;L·L·A·M·姆倫迪卡斯;A·F·J·德格羅特;J·A·C·M·皮南伯格 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 王茂華;胡良均 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 襯底 支撐 光刻 設備 檢查 器件 制造 方法 | ||
1.一種用于支撐襯底的襯底支撐件,包括:
-支撐主體,所述支撐主體包括用于支撐所述襯底的支撐表面,
-短行程模塊,
-長行程模塊,
-旋轉抖動裝置,
其中所述短行程模塊被布置成相對于所述長行程模塊移動所述支撐主體,并且其中所述長行程模塊被布置成移動所述短行程模塊,并且其中所述旋轉抖動裝置被配置成引起所述襯底與所述支撐主體的所述支撐表面之間的、繞垂直于所述支撐表面的旋轉軸線的相對旋轉抖動運動。
2.根據權利要求1所述的襯底支撐件,
其中所述旋轉抖動裝置被配置成當所述襯底與所述支撐主體的所述支撐表面的至少一部分接觸時,引起所述襯底與所述支撐主體的所述支撐表面之間的所述相對旋轉抖動運動。
3.根據前述權利要求中任一項所述的襯底支撐件,
其中所述支撐主體包括多個支撐主體突節,并且其中所述支撐主體突節的頂表面一起形成所述支撐表面。
4.根據前述權利要求中任一項所述的襯底支撐件,
其中所述旋轉抖動裝置被配置成引起所述襯底與所述支撐主體和短行程模塊的組合之間的相對旋轉抖動運動。
5.根據前述權利要求中任一項所述的襯底支撐件,
其中所述襯底主體包括多個臺支撐突節,所述多個臺支撐突節被配置成將所述襯底主體支撐在所述短行程模塊上,所述臺支撐突節被彼此間隔開,
并且其中所述旋轉抖動裝置包括致動器,所述致動器被布置在相鄰的臺支撐突節之間的空間中。
6.根據前述權利要求中任一項所述的襯底支撐件,
其中所述旋轉抖動裝置被配置成引起所述短行程模塊與長行程模塊之間的相對旋轉抖動運動。
7.根據前述權利要求中任一項所述的襯底支撐件,
其中所述襯底支撐件還包括襯底定位器,所述襯底定位器被配置成將所述襯底布置在所述支撐主體的所述支撐表面上,
其中所述旋轉抖動裝置被配置成引起由所述襯底定位器所保持的所述襯底與所述襯底支撐表面之間的相對旋轉抖動運動。
8.根據權利要求7所述的襯底支撐件,其中所述襯底定位器包括裝載銷,其中所述旋轉抖動裝置被連接到所述裝載銷,其中所述長行程模塊以使得所述裝載銷與所述長行程模塊一起移動的方式被連接到所述裝載銷。
9.根據前述權利要求中任一項所述的襯底支撐件,
其中所述襯底定位器被配置成在將所述襯底布置在所述支撐主體的所述支撐表面上的同時將所述襯底保持在襯底平面中,以及
其中所述旋轉抖動裝置被配置成在與所述相對旋轉抖動運動不同的方向上提供附加的相對抖動運動。
10.一種光刻設備,包括根據前述權利要求中任一項所述的襯底支撐件。
11.一種光刻設備,包括投影系統和用于相對于所述投影系統定位襯底的襯底定位系統,其中所述襯底定位系統包括根據權利要求1至9中任一項所述的襯底支撐件。
12.一種光刻設備,包括襯底預對準裝置,其中所述襯底預對準裝置包括根據權利要求1至9中任一項所述的襯底支撐件。
13.一種光刻設備,包括被配置成使所述襯底的溫度穩定的襯底熱穩定裝置,其中所述襯底熱穩定裝置包括根據權利要求1至9中任一項所述的襯底支撐件。
14.一種襯底檢查設備,包括根據權利要求1至9中任一項所述的襯底支撐件。
15.一種器件制造方法,包括將圖案從圖案形成裝置轉印到襯底上,所述方法包括使用根據權利要求10至13中任一項所述的光刻設備的步驟。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于ASML荷蘭有限公司,未經ASML荷蘭有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201980055297.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





