[發(fā)明專利]存儲(chǔ)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201980051607.3 | 申請(qǐng)日: | 2019-07-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112640089A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 大貫達(dá)也;加藤清;熱海知昭;山崎舜平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社半導(dǎo)體能源研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L21/8242 | 分類號(hào): | H01L21/8242;H01L21/8239;H01L27/105;H01L27/108;H01L29/786 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 宋俊寅 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 存儲(chǔ) 裝置 | ||
1.一種存儲(chǔ)裝置,包括:
延伸在第一方向上的多個(gè)第一布線;
多個(gè)氧化物層;
第一存儲(chǔ)元件群;以及
第二存儲(chǔ)元件群,
其中,所述多個(gè)第一布線包括:
與所述第一存儲(chǔ)元件群重疊的區(qū)域;以及
與所述第二存儲(chǔ)元件群重疊的區(qū)域,
所述多個(gè)氧化物層中之一包括沿著所述第一布線中之一的側(cè)面延伸的區(qū)域,
所述第一存儲(chǔ)元件群和所述第二存儲(chǔ)元件群包括多個(gè)存儲(chǔ)元件,
所述多個(gè)存儲(chǔ)元件的每一個(gè)都包括晶體管及電容器,
在所述多個(gè)存儲(chǔ)元件的每一個(gè)中,
所述晶體管的柵電極與所述多個(gè)第一布線中之一電連接,
所述晶體管的半導(dǎo)體層包括與所述多個(gè)氧化物層中之一接觸的區(qū)域,
并且,配置在所述第一存儲(chǔ)元件群的端部的存儲(chǔ)元件所包括的晶體管的柵電極與配置在所述第二存儲(chǔ)元件群的端部的存儲(chǔ)元件所包括的晶體管的柵電極之間的最短距離為3.5μm以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的存儲(chǔ)裝置,
其中所述最短距離為2.3μm以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的存儲(chǔ)裝置,
其中包括延伸在第二方向上的多個(gè)第二布線,
并且在所述多個(gè)存儲(chǔ)元件的每一個(gè)中,所述晶體管的源電極和漏電極中的一個(gè)與所述多個(gè)第二布線中的一個(gè)電連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的存儲(chǔ)裝置,
其中在所述多個(gè)存儲(chǔ)元件的每一個(gè)中,所述晶體管的源電極和漏電極中的另一個(gè)與所述電容器電連接。
5.權(quán)利要求1至權(quán)利要求4中任一項(xiàng)的存儲(chǔ)裝置,
其中所述多個(gè)氧化物層中之一包括隔著絕緣層與所述第一布線中之一重疊的區(qū)域。
6.權(quán)利要求1至權(quán)利要求5中任一項(xiàng)的存儲(chǔ)裝置,
其中所述氧化物層包含銦和鋅中的一個(gè)或兩個(gè)。
7.權(quán)利要求1至權(quán)利要求6中任一項(xiàng)的存儲(chǔ)裝置,
其中所述半導(dǎo)體層包含銦和鋅中的一個(gè)或兩個(gè)。
8.權(quán)利要求1至權(quán)利要求7中任一項(xiàng)的存儲(chǔ)裝置,還包括延伸在第一方向上的多個(gè)第三布線,
其中所述多個(gè)第三布線中的一個(gè)包括與所述多個(gè)第一布線中的一個(gè)彼此重疊的區(qū)域。
9.一種存儲(chǔ)裝置,包括:
延伸在第一方向上的多個(gè)第一布線;
多個(gè)氧化物層;
第一存儲(chǔ)元件群;
第二存儲(chǔ)元件群;以及
第一區(qū)域,
其中,所述多個(gè)第一布線包括:
與所述第一存儲(chǔ)元件群重疊的區(qū)域;
與所述第二存儲(chǔ)元件群重疊的區(qū)域;以及
與所述第一區(qū)域重疊的區(qū)域,
所述多個(gè)氧化物層中之一包括沿著所述第一布線中之一的側(cè)面延伸的區(qū)域,
所述第一存儲(chǔ)元件群和所述第二存儲(chǔ)元件群包括多個(gè)存儲(chǔ)元件,
所述多個(gè)存儲(chǔ)元件的每一個(gè)包括第一晶體管及電容器,
在所述多個(gè)存儲(chǔ)元件的每一個(gè)中,
所述第一晶體管的柵極與所述多個(gè)第一布線中之一電連接,
所述第一晶體管的半導(dǎo)體層包括與所述多個(gè)氧化物層中之一接觸的區(qū)域,
所述第一區(qū)域包括多個(gè)第二晶體管,
在所述多個(gè)第二晶體管的每一個(gè)中,柵電極與所述多個(gè)第一布線中之一電連接,源電極和漏電極中的一個(gè)或兩個(gè)與第四布線電連接,
并且,具有對(duì)所述第四布線供應(yīng)高電源電位的功能。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的存儲(chǔ)裝置,
其中延伸在第二方向上的多個(gè)第二布線,
并且在所述多個(gè)存儲(chǔ)元件的每一個(gè)中,所述第一晶體管的源電極和漏電極中的一個(gè)與所述多個(gè)第二布線中的一個(gè)電連接。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的存儲(chǔ)裝置,
其中在多個(gè)存儲(chǔ)元件的每一個(gè)中,所述第一晶體管的源電極和漏電極中的另一個(gè)與所述電容器電連接。
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