[發(fā)明專利]柱硬件及分離柱以及它們的制造方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201980049062.2
• 申請日: 2019-07-19
• 公開（公告）號: CN112470001A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 本川正規(guī);橋本淳一;加納未夏;村山希
• 申請（專利權(quán)）人: 技邇科學(xué)有限公司
• 主分類號: G01N30/60
• 分類號: G01N30/60
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 劉強

1.一種液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

在液相色譜法用柱硬件的金屬制流動相液體接觸部設(shè)有SiO₂的第一膜，在所述第一膜上設(shè)有SiO₂表面的硅烷醇基經(jīng)烷基甲硅烷基化而制成的第二膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

所述第二膜由所述第一膜的SiO₂表面的硅烷醇基經(jīng)烷基甲硅烷基化而制成的膜構(gòu)成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

所述第一膜的原料為選自無機聚硅氮烷、四烷氧基硅烷、甲基三烷氧基硅烷、二甲基二烷氧基硅烷、三甲基單烷氧基硅烷、乙基三烷氧基硅烷、二乙基二烷氧基硅烷、三乙基單烷氧基硅烷、丙基三烷氧基硅烷、二丙基二烷氧基硅烷、三丙基單烷氧基硅烷、六甲基環(huán)三硅氧烷或八甲基環(huán)四硅氧烷等二甲基型環(huán)狀硅氧烷、二乙基型環(huán)狀硅氧烷、二丙基型環(huán)狀硅氧烷、六甲基二硅氧烷、八甲基三硅氧烷或十甲基四硅氧烷等線性聚二甲基硅氧烷、線性聚二乙基硅氧烷、線性聚二丙基硅氧烷中的一種以上。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

所述第一膜的原料為選自全氫聚硅氮烷、四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基二丙氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、三甲基乙氧基硅烷、三甲基丙氧基硅烷中的一種以上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求4中任一項所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

所述第二膜的原料為選自烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、三烷基單烷氧基硅烷中的一種以上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

所述第二膜的原料為選自甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基二丙氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、三甲基乙氧基硅烷、三甲基丙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三丙氧基硅烷、二乙基二甲氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、二乙基二丙氧基硅烷、三乙基甲氧基硅烷、三乙基乙氧基硅烷、三乙基丙氧基硅烷中的一種以上。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求6中任一項所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

所述第二膜由SiO₂表面的硅烷醇基經(jīng)甲基甲硅烷基化而制成的膜構(gòu)成。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求6中任一項所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

所述第二膜由SiO₂表面的硅烷醇基經(jīng)乙基甲硅烷基化而制成的膜構(gòu)成。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求8中任一項所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

構(gòu)成所述液相色譜法用柱硬件的柱管的內(nèi)徑為1.0mm以上，長度為10m以下。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求9中任一項所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

構(gòu)成所述液相色譜法用柱硬件的柱管的內(nèi)徑為2.1mm以上。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求10中任一項所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

所述第一膜由一層由一種以上的原料構(gòu)成的第一層構(gòu)成。

12.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求10中任一項所述的液相色譜法用柱硬件，其特征在于，

所述第一膜在由一種以上的原料構(gòu)成的第一層上層疊一層以上第二層而構(gòu)成，所述第二層由與構(gòu)成所述第一層的原料不同種類的一種以上的原料構(gòu)成。