[發(fā)明專利]成膜裝置及成膜方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201980043138.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-08-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112334595B | 公開(公告)日: | 2022-12-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 加藤裕子;矢島貴浩;中村文生;植喜信;小倉(cāng)祥吾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社愛發(fā)科 |
| 主分類號(hào): | C23C14/50 | 分類號(hào): | C23C14/50;B05C9/12;B05C11/10;B05D3/00;B05D3/06;C23C14/12;C23C14/58 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 袁波;劉繼富 |
| 地址: | 日本神*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 方法 | ||
本發(fā)明提供一種以良好的膜厚分布在基板上形成樹脂層的成膜裝置。在成膜裝置中,冷卻臺(tái)具有支承基板的支承面和與支承面相連的側(cè)面部,構(gòu)成為被支承面支承的上述基板的外周端從側(cè)面部突出。防附著框部為環(huán)狀,配置成包圍冷卻臺(tái)的側(cè)面部,在與基板的上述外周端相向的位置設(shè)有凹部,側(cè)面部被凹部包圍。氣體供給部向支承面供給含有能量束固化樹脂的原料氣體。照射源與支承面相向,并向上述支承面照射使能量束固化樹脂固化的能量束。真空槽容納有冷卻臺(tái)、防附著框部、氣體供給部以及照射源。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及成膜裝置及成膜方法。
背景技術(shù)
在將紫外線固化樹脂等能量束固化樹脂固化并在基板上形成樹脂層時(shí),典型地進(jìn)行以下兩道工序。即,通過冷卻臺(tái)支承基板,并向冷卻臺(tái)支承的基板上供給含有該樹脂的原料氣體的工序,以及,向基板上照射紫外線等的光,并在基板上形成固化后的樹脂層的工序。
特別在最近,提供了一種成膜裝置,其不在各自獨(dú)立的真空腔室內(nèi)實(shí)施這樣的多個(gè)工序,而是在1個(gè)真空腔室內(nèi)實(shí)施向基板上供給原料氣體的工序和利用紫外線等在基板上形成固化后的樹脂層的工序(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2013-064187號(hào)公報(bào)。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題
但是在減壓環(huán)境中,原料氣體容易附著在相當(dāng)于基板的肋部(超出基板的外周端的前端部分)的冷卻臺(tái)。當(dāng)該原料氣體固化并厚厚地堆積成樹脂層時(shí),會(huì)產(chǎn)生基板在該樹脂層上抬的現(xiàn)象。由此,陷入了由冷卻臺(tái)產(chǎn)生的基板的冷卻效果降低,基板的面內(nèi)溫度分布不能均勻,無法得到期望的膜厚分布的狀況。
作為解決該狀況的手段,有在冷卻臺(tái)周圍安裝包圍冷卻臺(tái)的側(cè)面部的防附著板的方法。但是,即使設(shè)有這樣的防附著板,樹脂層也堆積在基板肋部的防附著板,最終產(chǎn)生同樣的現(xiàn)象。
鑒于以上情況,本發(fā)明的目的在于提供一種能夠以良好的膜厚分布在基板上形成樹脂層的成膜裝置及成膜方法。
用于解決問題的方案
為了達(dá)成上述目的,本發(fā)明的一種方式涉及的成膜裝置具有:冷卻臺(tái)、防附著框部、氣體供給部、照射源以及真空槽。
上述冷卻臺(tái)具有支承基板的支承面和與上述支承面相連的側(cè)面部,上述冷卻臺(tái)構(gòu)成為上述支承面支承的上述基板的外周端從上述側(cè)面部突出。
上述防附著框部為環(huán)狀,配置成包圍上述冷卻臺(tái)的上述側(cè)面部,并且在與上述基板的上述外周端相向的位置設(shè)有凹部,上述側(cè)面部被上述凹部包圍。
上述氣體供給部向上述支承面供給含有能量束固化樹脂的原料氣體。
上述照射源與上述支承面相向,并向上述支承面照射使上述能量束固化樹脂固化的能量束。
上述真空槽容納有上述冷卻臺(tái)、上述防附著框部、上述氣體供給部以及上述照射源。
根據(jù)這樣的成膜裝置,由于以包圍冷卻臺(tái)的側(cè)面部的方式配置有防附著框部,所以樹脂層在冷卻臺(tái)難以堆積。進(jìn)而,由于在防附著框部的與基板的外周端相向的位置設(shè)有凹部,所以即使樹脂層在防附著框部堆積,樹脂層也無法到達(dá)基板,基板難以從冷卻臺(tái)離開。由此,基板的面內(nèi)溫度分布變得均勻,能夠以良好的膜厚分布在基板上形成樹脂層。
在成膜裝置中,也可以是:
在上述冷卻臺(tái)的上述側(cè)面部與上述防附著框部之間設(shè)有第一間隙,
在上述防附著框部與上述基板之間設(shè)有第二間隙,
在上述冷卻臺(tái)設(shè)有經(jīng)由上述第一間隙從上述第二間隙向上述真空槽的側(cè)壁噴射非活性氣體的氣體噴射機(jī)構(gòu)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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