[發明專利]包含陰離子空位晶格的哈伯-博施催化劑在審
| 申請號: | 201980042416.0 | 申請日: | 2019-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN112313008A | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發明(設計)人: | 陶善文;約翰·漢弗萊斯 | 申請(專利權)人: | 華威大學 |
| 主分類號: | B01J27/24 | 分類號: | B01J27/24;B01J23/10;B01J23/83;B01J23/63;C01C1/04;C22C32/00;B01J35/00;B01J37/04;B01J37/08;B01J37/18;B01J35/10;B01J37/03;C01B21/082 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 張兵兵 |
| 地址: | 英國考*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 包含 陰離子 空位 晶格 催化劑 | ||
1.用于催化哈伯-博施方法的組合物,所述組合物包含陰離子空位晶格和哈伯-博施催化劑。
2.根據權利要求1所述的組合物,其中所述哈伯-博施催化劑包括選自由Fe、Co、Ni、Ru或它們的組合組成的組的金屬化合物。
3.根據權利要求1或權利要求2所述的組合物,其中所述組合物被配置用于催化哈伯-博施方法。
4.根據前述權利要求中任一項所述的組合物,其中所述陰離子空位晶格被摻雜以促進陰離子空位。
5.根據前述權利要求中任一項所述的組合物,其中所述陰離子空位晶格是氮氧化物。
6.根據權利要求5所述的組合物,其中所述氮氧化物是根據式III的化合物:
CeaMbO2-XNY
(式III)
其中M是化合價小于4的一種或多種元素,“a”和“b”獨立地在0.05至0.95的范圍內,前提是“a”和“b”加起來等于1;0X2;并且0Y≤X。
7.根據權利要求6所述的組合物,其中M是Sm和/或a是0.5至0.9。
8.根據權利要求6所述的組合物,其中(i)M是Pr或La;和/或(ii)a是0.2至0.6。
9.根據權利要求5所述的組合物,其中所述氮氧化物是根據式V或VI的化合物:
ZraMbO2-XNY
(式V)
其中M是鈦;和/或鈰;和/或化合價小于4的一種或多種元素,“a”和“b”獨立地在0.05至0.95的范圍內,前提是“a”和“b”加起來等于1;0X2;并且0Y≤X
TiaMbO2-XNY
(式VI)
其中M是鋯;和/或鈰;和/或化合價小于4的一種或多種元素,“a”和“b”獨立地在0.05至0.95的范圍內,前提是“a”和“b”加起來等于1;0X2;并且0Y≤X。
10.根據權利要求4所述的組合物,其中所述陰離子空位晶格是氧空位晶格,并且所述氧空位晶格包括摻雜的CeO2、摻雜的ZrO2、摻雜的TiO2、摻雜的BaZrO3或它們的組合。
11.根據權利要求10所述的組合物,其中所述氧空位晶格是釔穩定的氧化鋯(YSZ)。
12.根據權利要求10所述的組合物,其中所述氧空位晶格為根據式II的化合物;
CeaMbO2-δ
(式II)
其中,M是化合價小于4的一種或多種元素,“a”和“b”獨立地在0.05至0.95的范圍內,前提是“a”和“b”加起來等于1。
13.根據權利要求12所述的組合物,其中(i)“a”和“b”各自獨立地在0.1至0.8的范圍內和/或(ii)M是Sm、Pr、La、Gd或它們的組合。
14.根據權利要求13所述的組合物,其中所述氧空位晶格包含Ce0.8Sm0.2O2-δ或Ce0.5Sm0.5O2-δ。
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