[發明專利]正極用活性物質、正極、蓄電裝置、及正極用活性物質的制造方法在審
| 申請號: | 201980042415.6 | 申請日: | 2019-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN112313823A | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發明(設計)人: | 后藤千里;矢野雅也;武弘義 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | H01M4/60 | 分類號: | H01M4/60;H01G11/48;H01G11/84;H01M4/137;H01M4/36;H01M10/0567 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 正極 活性 物質 裝置 制造 方法 | ||
1.一種正極用活性物質,其具備具有氧化體及還原體的電化學活性的聚合物的集合體,
其中,所述集合體包含成為表面的第一部位及被所述第一部位覆蓋的第二部位,
所述第一部位中的所述氧化體的重量基準的含有率低于所述第二部位中的所述氧化體的重量基準的含有率。
2.根據權利要求1所述的活性物質,其中,所述電化學活性的聚合物包含聚苯胺及聚苯胺衍生物中的至少一者。
3.根據權利要求1或2所述的活性物質,其中,所述集合體以重量基準計包含20~70%的氧化體。
4.一種正極,其具備:含有權利要求1~3中任一項所述的活性物質的活性物質層。
5.根據權利要求4所述的正極,其中,所述活性物質層還包含導電助劑。
6.一種蓄電裝置,其具備:
電解質層,
與所述電解質層的第一主表面接觸并配置的負極,和
與所述電解質層的第二主表面接觸并配置的權利要求4或5所述的正極。
7.根據權利要求6所述的蓄電裝置,其中,所述電解質層含有添加有還原劑的電解液,
所述電解液中的還原劑的濃度為0.1~15重量%。
8.根據權利要求7所述的蓄電裝置,其中,所述還原劑包含碳酸亞乙烯酯及氟代碳酸亞乙酯中的至少一者。
9.一種正極用活性物質的制造方法,其包括:
提供具有氧化體的電化學活性的聚合物的集合體的工序;和
使成為所述集合體的表面的第一部位中存在的所述氧化體還原,使所述第一部位中的所述氧化體的重量基準的含有率與被所述第一部位覆蓋的所述集合體的第二部位中的所述氧化體的重量基準的含有率相比降低的工序。
10.根據權利要求9所述的方法,其中,使含有還原劑的液體與所述集合體接觸,從而使在所述第一部位存在的所述氧化體還原。
11.根據權利要求10所述的方法,其中,所述液體中的所述還原劑的濃度為0.5~16重量%。
12.根據權利要求11所述的方法,其中,所述還原劑包含碳酸亞乙烯酯及氟代碳酸亞乙酯中的至少一者。
13.根據權利要求10~12中任一項所述的方法,其中,所述液體兼作所述蓄電裝置的電解液。
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