[發明專利]渦旋流體機械

有效

• 申請號: 201980014287.4
• 申請日: 2019-01-11
• 公開（公告）號: CN111742143B
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發明（設計）人: 佐藤創;木全央幸;伊藤隆英
• 申請（專利權）人: 三菱重工制冷空調系統株式會社
• 主分類號: F04C18/02
• 分類號: F04C18/02;F01C1/02;F01C19/08
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 劉建

1.一種渦旋流體機械，其具備：

第一渦旋構件，其在第一端板上設置有渦卷狀的第一壁體；以及

第二渦旋構件，其在與所述第一端板相向地配置的第二端板上設置有渦卷狀的第二壁體，該第二壁體與所述第一壁體嚙合并相對地進行公轉回旋運動，

其中，

在所述渦旋流體機械中設置有相向的所述第一端板與所述第二端板的對置面間距離從所述第一壁體以及所述第二壁體的外周側朝向內周側而連續地減小的傾斜部，

所述傾斜部繞渦卷的中心在180°以上的范圍內設置，

在形成于與所述傾斜部對應的所述第一壁體以及所述第二壁體的齒頂的槽部中設置有頂端密封件，該頂端密封件與對置的齒底接觸從而將流體密封，

在將回旋的所述渦旋構件的回旋半徑設為ρ，將所述傾斜部的渦卷方向上的傾斜度設為的情況下，通過下式來定義頂隙變化量ΔT，

所述頂隙變化量ΔT為所述壁體的高度方向上的所述頂端密封件的高度尺寸的50％以下，

所述傾斜部的渦卷方向上的傾斜度為0.2°以上且4°以下。

2.一種渦旋流體機械，其具備：

第一渦旋構件，其在第一端板上設置有渦卷狀的第一壁體；以及

第二渦旋構件，其在與所述第一端板相向地配置的第二端板上設置有渦卷狀的第二壁體，該第二壁體與所述第一壁體嚙合并相對地進行公轉回旋運動，

其中，

在所述渦旋流體機械中設置有相向的所述第一端板與所述第二端板的對置面間距離從所述第一壁體以及所述第二壁體的外周側朝向內周側而連續地減小的傾斜部，

所述傾斜部繞渦卷的中心在180°以上的范圍內設置，

在將回旋的所述渦旋構件的回旋半徑設為ρ，將所述傾斜部的渦卷方向上的傾斜度設為的情況下，通過下式來定義頂隙變化量ΔT，

所述頂隙變化量ΔT除以所述壁體的最外周的高度而得的值為0.01以下，

所述傾斜部的渦卷方向上的傾斜度為0.2°以上且4°以下。

3.一種渦旋流體機械，其具備：

第一渦旋構件，其在第一端板上設置有渦卷狀的第一壁體；以及

第二渦旋構件，其在與所述第一端板相向地配置的第二端板上設置有渦卷狀的第二壁體，該第二壁體與所述第一壁體嚙合并相對地進行公轉回旋運動，

其中，

在所述渦旋流體機械中設置有相向的所述第一端板與所述第二端板的對置面間距離從所述第一壁體以及所述第二壁體的外周側朝向內周側而連續地減小的傾斜部，

所述傾斜部繞渦卷的中心在180°以上的范圍內設置，

所述壁體的齒頂與所述端板的齒底之間的頂隙設定得比基于由組裝誤差引起的繞所述渦旋構件的中心的扭轉角的頂隙減小量大，

所述傾斜部的渦卷方向上的傾斜度為0.2°以上且4°以下。