[發(fā)明專利]光模塊

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980012752.0
• 申請(qǐng)日: 2019-02-14
• 公開（公告）號(hào): CN111699596A
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山岡一樹;有賀麻衣子;稻葉悠介
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 古河電氣工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01S5/022
• 分類號(hào): H01S5/022;G02B6/42
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王亞愛

提供能以簡(jiǎn)易的結(jié)構(gòu)抑制雜散光的光模塊。光模塊(101)具備：遮蔽部(700)，其抑制由于發(fā)光元件(300)出射的激光(L1)以及經(jīng)由透鏡(400)出射的激光(L1)的至少一方在封裝內(nèi)或透鏡(400)反射或散射而產(chǎn)生的雜散光入射到受光元件(600)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光模塊。

背景技術(shù)

過去已知如下技術(shù)：光模塊通過用金屬部件覆蓋將激光受光的受光元件，來(lái)抑制在封裝內(nèi)產(chǎn)生的雜散光被受光元件受光(參考專利文獻(xiàn)1)。

在先技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：JP特開2005-19746號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的課題

但在上述的專利文獻(xiàn)1中，由于為了抑制雜散光而需要將受光元件用金屬部件完全覆蓋，因此光模塊的結(jié)構(gòu)復(fù)雜化的問題點(diǎn)。

本發(fā)明簡(jiǎn)易上述而提出，其目的在于，提供能以簡(jiǎn)易的結(jié)構(gòu)抑制雜散光的光模塊。

用于解決課題的手段

為了解決上述的課題，達(dá)成目的，本公開所涉及的光模塊在封裝內(nèi)收容光學(xué)部件、和經(jīng)由光學(xué)部件將激光受光的受光元件，所述光模塊的特征在于，具備：遮蔽部，其抑制由于所述激光以及經(jīng)由所述光學(xué)部件出射的所述激光的至少一方在所述封裝內(nèi)或所述光學(xué)部件反射或散射而產(chǎn)生的雜散光入射到所述受光元件。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，還具備：發(fā)光元件，其向所述光學(xué)部件出射所述激光。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述激光從外部光源出射，入射到該光模塊。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述遮蔽部配置于所述光學(xué)部件的表面。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述遮蔽部配置于所述光學(xué)部件的表面。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述光學(xué)部件在所述封裝內(nèi)設(shè)有多個(gè)，所述遮蔽部配置于多個(gè)所述光學(xué)部件中在所述發(fā)光元件所出射的所述激光的光路中配置在最接近所述發(fā)光元件的位置的第1光學(xué)部件、與所述受光元件之間。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述第1光學(xué)部件是透鏡。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述遮蔽部進(jìn)一步配置于從多個(gè)所述光學(xué)部件中除去所述第1光學(xué)部件以外的其他所述光學(xué)部件的至少1者、與所述受光元件之間。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述遮蔽部配置于除了所述激光的光路以外的所述光學(xué)部件的表面。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述光模塊還具備：底座部，其載置所述光學(xué)部件、所述發(fā)光元件以及所述受光元件，所述遮蔽部至少使將所述發(fā)光元件和所述受光元件連起來(lái)的直線上的所述底座部的位置隆起并形成為壁狀。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述遮蔽部涂布樹脂，使得將除了所述激光的光路以外的所述光學(xué)部件的表面覆蓋。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述光學(xué)部件包含透鏡、分束器、反射鏡、光隔離器、標(biāo)準(zhǔn)具濾波器、波長(zhǎng)檢測(cè)用濾波器以及波導(dǎo)路元件的任意1者以上。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述光反射體是金屬涂層膜。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述光反射體是電介質(zhì)多層膜。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述光反射體是經(jīng)過鏡面處理的反射構(gòu)件。

另外，本公開所涉及的光模塊特征在于，所述光散射體或所述光吸收體是遮光性的樹脂。