[發明專利]輻射冷卻裝置

在審

• 申請號: 201980009051.1
• 申請日: 2019-01-17
• 公開（公告）號: CN111630419A
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發明（設計）人: 末光真大;齋藤禎
• 申請（專利權）人: 大阪瓦斯株式會社
• 主分類號: G02B5/26
• 分類號: G02B5/26;B32B7/035;B32B15/04;B32B17/06;F28F21/04;F28F21/08
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 童春媛;龐立志

提供可在實現光反射層的低廉化的同時，適當地冷卻冷卻對象的輻射冷卻裝置。將從輻射面H輻射紅外光IR的紅外輻射層A和位于該紅外輻射層A的與輻射面H存在側相反一側的光反射層B以層疊狀態設置，光反射層B構成為將由銀或銀合金形成的第1層B1和由鋁或鋁合金形成的第2層B2以使第1層B1位于靠近紅外輻射層A一側的形態層疊的狀態。

技術領域

本發明涉及將從輻射面輻射紅外光的紅外輻射層和位于該紅外輻射層的與所述輻射面存在側相反一側的光反射層以層疊狀態設置而成的輻射冷卻裝置。

背景技術

所述輻射冷卻裝置被用于使從紅外輻射層的輻射面輻射的紅外光通過大氣窗口(例如透過波長為8~13μm的紅外光的窗口等)而透過，從而冷卻位于光反射層的與紅外輻射層存在側相反一側的冷卻對象等的各種冷卻對象的冷卻。

順便提及，光反射層通過反射透過紅外輻射層的光(可見光、紫外光、紅外光)而使其從輻射面輻射，從而避免將透過紅外輻射層的光(可見光、紫外光、紅外光)投射至冷卻對象，使冷卻對象被加溫。

需說明的是，除了對透過紅外輻射層的光以外，光反射層還具有將從紅外輻射層輻射至光反射層存在側的紅外光向紅外輻射層反射的作用，但在下面的描述中，將光反射層描述為為了反射透過紅外輻射層的光(可見光、紫外光、紅外光)而設置的層。

作為這樣的輻射冷卻裝置的第1現有例，有如下的實例，其中，光反射層構成為將由銀形成的金屬層和將二氧化鈦(TiO₂)層和氟化鎂(MgF₂)層以交替排列的狀態形成為多層狀態而得到的光子帶隙層以光子帶隙層位于靠近紅外輻射層一側的形態層疊的狀態(例如參照專利文獻1。)。

另外，作為輻射冷卻裝置的第2現有例，有光反射層作為由鋁形成的金屬層而構成的實例(例如參照專利文獻2。)。

順便提及，在專利文獻2中，將由鋁形成的金屬層作為基板，按照將構成紅外輻射層的SiO層和MgO層層疊的方式來構成。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：國際公開第2014/078223號

專利文獻2：日本特開平7-174917號公報。

發明內容

發明所要解決的課題

在第1現有例中，由于光反射層具備以多層狀態層疊的光子帶隙層，所以存在制作繁雜的缺點，而且，即使具備光子帶隙層，由于無法使由高價的銀形成的金屬層充分變薄，所以存在難以實現整體結構的低廉化的缺點。

在第2現有例中，由于光反射層作為由鋁形成的金屬層而構成，所以光反射層由廉價的鋁形成，因此可實現整體結構的低廉化。

但是，由于由鋁形成的金屬層比銀容易吸收光，所以透過紅外輻射層的光被由鋁形成的金屬層吸收，由于該光的吸收而升溫的金屬層導致將冷卻對象加溫等，從而有無法適當地冷卻冷卻對象之虞。

鑒于這樣的情況，根據本發明的發明人銳意研究的結果，判明了：若光反射層被構成為厚度為100nm以上的由銀形成的金屬層，則可在抑制將透過紅外輻射層的光投射至冷卻對象的同時，冷卻冷卻對象(參照圖9、圖10)，而且，若將光反射層構成為厚度為300nm以上的由銀形成的金屬層，則能夠可靠地抑制將透過紅外輻射層的光投射至冷卻對象，從而適當地冷卻冷卻對象。

但是，由于銀是高價的金屬，所以若將光反射層構成為厚度為300nm以上的由銀形成的金屬層，則輻射冷卻裝置價格升高，因此希望在極力抑制銀的使用量的同時，冷卻冷卻對象。

本發明鑒于上述情況而完成，其目的在于，提供可在實現光反射層的低廉化的同時，適當地冷卻冷卻對象的輻射冷卻裝置。

解決課題的手段