[發明專利]流體處理裝置

在審

• 申請號: 201980003194.1
• 申請日: 2019-01-25
• 公開（公告）號: CN110799792A
• 公開（公告）日: 2020-02-14
• 發明（設計）人: 鄭*鶴;金智元;申相哲;鄭雄基
• 申請（專利權）人: 首爾偉傲世有限公司
• 主分類號: F24F3/16
• 分類號: F24F3/16;A61L9/20
• 代理公司: 11722 北京鉦霖知識產權代理有限公司
• 代理人: 李英艷;玉昌峰

1.一種流體處理裝置，包括：

光催化劑過濾器，對流體進行脫臭并殺菌；

框架，固定所述光催化劑過濾器；以及

光源部，與所述框架結合，

所述光源部包括：

光源支承部件；以及

發光二極管，提供于所述光源支承部件上而向所述光催化劑過濾器上射出光，

所述框架和所述光源支承部件以使所述光催化劑過濾器和所述發光二極管間隔的形式結合。

2.根據權利要求1所述的流體處理裝置，其中，

所述光催化劑過濾器提供多個。

3.根據權利要求2所述的流體處理裝置，其中，

多個所述光催化劑過濾器提供于同一平面上。

4.根據權利要求2所述的流體處理裝置，其中，

所述框架包括提供于多個所述光催化劑過濾器之間的格柵。

5.根據權利要求4所述的流體處理裝置，其中，

多個所述光催化劑過濾器間的距離與所述格柵的寬度相同。

6.根據權利要求1所述的流體處理裝置，其中，

所述發光二極管的指向角的大小為120度以下。

7.根據權利要求1所述的流體處理裝置，其中，

關于所述光催化劑過濾器和所述發光二極管間的距離L與所述光催化劑過濾器的直徑D，

D/L為3.46至3.50。

8.根據權利要求1所述的流體處理裝置，其中，

所述框架包括第一框架和第二框架，

所述第一框架和所述第二框架之間提供所述光催化劑過濾器。

9.根據權利要求8所述的流體處理裝置，其中，

所述光催化劑過濾器提供多個，

所述流體處理裝置包括提供于所述第一框架的第一格柵和提供于所述第二框架的第二格柵，

所述第一格柵和所述第二格柵分別提供于多個所述光催化劑過濾器之間。

10.根據權利要求1所述的流體處理裝置，其中，

所述光源支承部件提供多個，

所述光源部還包括與多個所述光源支承部件結合的輔助部件。

11.根據權利要求10所述的流體處理裝置，其中，

所述輔助部件包含金屬，從而去除從所述發光二極管和所述光源支承部件產生的熱量。

12.根據權利要求1所述的流體處理裝置，其中，

所述光源部包括在一個所述光源支承部件上提供的多個所述發光二極管。

13.根據權利要求1所述的流體處理裝置，其中，

所述框架還包括連接所述框架和所述光源支承部件的結合部件，

利用所述結合部件而調節所述框架和所述光源支承部件間的距離。

14.根據權利要求1所述的流體處理裝置，其中，

所述發光二極管提供多個，

多個所述發光二極管提供為將所述光催化劑過濾器置于中間而間隔。

15.根據權利要求1所述的流體處理裝置，其中，

所述光催化劑過濾器包括：

在表面涂覆光催化劑物質并燒結的多個珠子；以及

布置于所述珠子之間的孔。

16.根據權利要求15所述的流體處理裝置，其中，

所述珠子包括選自氧化鋁(Al₂O₃)、氧化硅(SiO₂)、氧化鋯(ZrO₂)、氮化硅(Si₃N₄)、碳化硅(SiC)及它們的組合的至少一種。