[實用新型]一種基于硅納米線結(jié)構(gòu)的太陽能電池有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201922495615.7 | 申請日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN211295115U | 公開(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 房冉冉;曹惠;聶順;郭麗娟;張瀟華 | 申請(專利權(quán))人: | 中國石油大學(xué)勝利學(xué)院 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/072 |
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| 地址: | 257061 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 納米 結(jié)構(gòu) 太陽能電池 | ||
本實用新型公開了一種基于硅納米線結(jié)構(gòu)的太陽能電池,其自上而下包括正面電極(1)、ITO氧化銦錫透明導(dǎo)電薄膜(2)、P型非晶硅層(3)、正面本征非晶硅層(4)、硅納米線絨面層(5)、N型硅襯底(6)、背面本征非晶硅層(7)、背面電極(8)。其中硅納米線絨面層(5)由相互交叉堆疊的硅納米線構(gòu)成,通過酒精溶液轉(zhuǎn)移至N型硅襯底(6)上形成的相互交叉堆疊的硅納米線層,其每根硅納米線直徑為40?80nm,長度為10?40um,該硅納米線層具有強烈的陷光特性,能夠有效降低硅襯底表面的光反射率。本實用新型通過采用硅納米線層,有效降低了電池表面的光反射率,增強了太陽能電池的陷光性能,提高了太陽能電池光電轉(zhuǎn)換效率,可用于光伏發(fā)電。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及太陽能電池的技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種基于硅納米線結(jié)構(gòu)的太陽能電池,可用于光伏發(fā)電。
背景技術(shù)
異質(zhì)結(jié)太陽能電池不同于傳統(tǒng)的太陽能電池,其PN結(jié)不是通過在硅襯底上摻入Ⅲ、Ⅴ族元素而形成的,而是在硅襯底上直接形成一層厚度為幾十到幾百納米不同材料的N型或者P型薄膜而形成。由于PN結(jié)兩側(cè)的材料有著質(zhì)的差別,因此,采用上述結(jié)構(gòu)形成的太陽能電池稱為異質(zhì)結(jié)太陽能電池。異質(zhì)結(jié)太陽能電池具有高轉(zhuǎn)化效率,工藝簡單及光穩(wěn)定性好等優(yōu)點,在光伏領(lǐng)域具有很大的前景。
現(xiàn)有的異質(zhì)結(jié)太陽能電池表面的陷光結(jié)構(gòu)通常采用金字塔型結(jié)構(gòu),剖面如圖2所示。其結(jié)構(gòu)自上而下分別為:柵線電極1、ITO氧化銦錫透明導(dǎo)電薄膜 2、P型非晶硅層3、正面本征非晶硅層4、N型硅襯底5、背面本征非晶硅層6、N型非晶硅層7、AZO 氧化鋅透明導(dǎo)電膜8、背電極9。襯底表面通過濕法刻蝕,形成擁有金字塔型重復(fù)單元的表面,再在其上等離子體化學(xué)氣相淀積PECVD本征非晶硅層和P型非晶硅層,形成具有金字塔陷光結(jié)構(gòu)的能量轉(zhuǎn)換機構(gòu)。當光入射電池表面光線會在其表面連續(xù)反射,增加光在電池表面陷光結(jié)構(gòu)中的有效運動長度和反射次數(shù),從而增大能量轉(zhuǎn)換機構(gòu)對光的吸收效率。但是這種結(jié)構(gòu)由于絨面尺寸不均勻且分布較廣,使得襯底表面缺陷密度大大增加,在正表面難以獲得高質(zhì)量的絨面陷光,不易降低襯底對光的反射系數(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,給出了一種基于硅納米線結(jié)構(gòu)的太陽能電池,以提高異質(zhì)結(jié)太陽能電池對光子的吸收和利用,降低硅襯底表面的光反射率。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提出的一種基于硅納米線結(jié)構(gòu)的太陽能電池自上而下包括正面電極(1)、ITO氧化銦錫透明導(dǎo)電薄膜(2)、P型非晶硅層(3)、正面本征非晶硅層(4)、硅納米線絨面層(5)、N型硅襯底(6)、背面本征非晶硅層(7)、背面電極(8)其特征在于:所述的正面本征非晶硅層(4)與N型硅襯底(6)之間增設(shè)有硅納米線絨面層(5)。
作為優(yōu)選,所述的所述的正面電極(1)與背面電極(8)均采用厚度40-80nm的金屬銀材料。
作為優(yōu)選,所述的P型非晶硅層(3)、正面本征非晶硅層(4)與背面本征非晶硅層(7)均采用厚度為10-20nm 的平整平面結(jié)構(gòu)。
作為優(yōu)選,所述的硅納米線絨面層(5)由相互交叉堆疊的硅納米線構(gòu)成,通過酒精溶液轉(zhuǎn)移至N型硅襯底(6)上形成的相互交叉堆疊的硅納米線層,其每根硅納米線直徑為40-80nm,長度為 10-40um。
作為優(yōu)選,所述的N型硅襯底(6)的厚度為200-300um。
本實用新型通過增加具有高表面積和高陷光特性的硅納米線絨面層,能夠有效降低硅襯底對光反射,提高了異質(zhì)結(jié)太陽能電池對光子的吸收和利用,改善了太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。
附圖說明
圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是現(xiàn)有擁有金字塔型陷光結(jié)構(gòu)的異質(zhì)結(jié)太陽能電池結(jié)構(gòu)圖。
具體實施方式
參照圖1,本實用新型給出如下兩個實施例:
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