[實用新型]一種高抗拉型砂布

有效

• 申請號: 201922476053.1
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN211709068U
• 公開（公告）日: 2020-10-20
• 發明（設計）人: 唐偉標;陳劍鋒
• 申請（專利權）人: 廣東小太陽砂磨材料有限公司
• 主分類號: B24D11/00
• 分類號: B24D11/00
• 代理公司: 廣州一銳專利代理有限公司 44369
• 代理人: 楊昕昕

本實用新型公開了一種高抗拉型砂布,包括基布層、位于基布層上方的膠粘劑層和位于膠粘劑層上方的磨料層，還包括第一抗拉層和第二抗拉層，所述第一抗拉層位于膠粘劑層和基布層之間，所述第二抗拉層位于基布層的下表面，所述第二抗拉層的下表面設有保護膜。本實用新型設置在基布層上表面和下表面的第一抗拉層和第二抗拉層能夠為基布層提供強有力的抗拉性能，增強了韌性，避免了砂布容易拉扯變形，甚至損壞，延長了使用壽命。

技術領域

本實用新型涉及涂附磨具技術領域，特別是涉及一種高抗拉型砂布。

背景技術

砂布是一種磨削、拋光時擁有可撓、可折和卷曲性能的工具，因其特有的在磨削的同時又可以拋光的性能，已在很多制造行業中廣泛使用。傳統的砂布一般都是由基材、粘合劑和磨料組成，一般采用紙質的基材，粘合劑和磨料混合涂覆于基材的上表面。但是目前的砂布普遍存在抗拉性能差的問題，在打磨的過程中容易導致砂布被拉長，甚至易因拉扯導致砂布變形和損壞。

實用新型內容

為了克服現有技術存在的不足，本實用新型提供了一種高抗拉型砂布，其使用壽命長，打磨效果好且抗拉能力強。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：一種高抗拉型砂布, 包括基布層、位于基布層上方的膠粘劑層和位于膠粘劑層上方的磨料層，還包括第一抗拉層和第二抗拉層，所述第一抗拉層位于膠粘劑層和基布層之間，所述第二抗拉層位于基布層的下表面，所述第二抗拉層的下表面設有保護膜。

作為優選方案，所述第一抗拉層和第二抗拉層均由經紗和緯紗交織而成，所述經紗之間等距排列，所述緯紗之間等距排列。

作為優選方案，所述經紗和緯紗的排列方向呈“十”字形。

作為優選方案，所述經紗和緯紗均由聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚對苯二甲酸丁二醇酯為原料制成。

作為優選方案，所述保護膜為聚氯乙烯制成。

作為優選方案，所述基布層由耐水材料或經過防水處理的布料構成。

作為優選方案，還包括防霉層，所述防霉層位于第二抗拉層和保護膜之間。

作為優選方案，所述防霉層填充有抗菌物質，所述抗菌物質為異硫氰酸乙酯和納米銀粒子混合而成。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：（1）設置在基布層上表面和下表面的第一抗拉層和第二抗拉層能夠為基布層提供強有力的抗拉性能，增強了韌性，避免了砂布容易拉扯變形，甚至損壞，延長了使用壽命；同時第一抗拉層和第二抗拉層均是通過聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚對苯二甲酸丁二醇酯為原料制成的經紗和緯紗交錯編織而成，能夠有效地防止其表面發生起毛現象；（2）在第二抗拉層的下表面設置的保護膜能夠避免在使用的過程中被外界的物質勾破第二抗拉層；（3）設置在第二抗拉層和保護膜之間的防霉層能夠避免在潮濕的環境下使用時造成砂布受潮發霉，防霉性好。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是實施例1中高抗拉型砂布的示意圖。

圖2是經紗和緯紗的示意圖。

圖3是實施例2中高抗拉型砂布的示意圖。

1-基布層；2-膠粘劑層；3-磨料層；4-第一抗拉層；5-第二抗拉層；6-保護層；7-經紗；8-緯紗；9-防霉層。

具體實施方式

現在結合附圖對本實用新型作進一步詳細的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本實用新型的基本結構，因此其僅顯示與本實用新型有關的構成。