[實用新型]一種離子濺射裝置

有效

• 申請號: 201922386645.4
• 申請日: 2019-12-27
• 公開（公告）號: CN211445886U
• 公開（公告）日: 2020-09-08
• 發明（設計）人: 林憲柱;王海濤
• 申請（專利權）人: 龍口博源新科金屬涂層有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 亳州速誠知識產權代理事務所(普通合伙) 34157
• 代理人: 張輝

本實用新型公開了一種離子濺射裝置，包括加工箱、等離子發射器和偏轉電磁線圈，所述加工箱的前表面通過合頁鉸接有密封門，且加工箱的一側固定連接有等離子發射器，所述加工箱內部的底端固定連接有托盤，且加工箱內部靠近托盤的一側固定連接有輔助離子發射器，所述加工箱內部靠近托盤的下側固定連接有偏轉電磁線圈，本實用新型涉及涂層生產技術領域。該離子濺射裝置中的夾持器可以在電機的帶動下進行運動，從而可以增大夾持器中的構件在裝置內部的運動范圍，從而可以讓構件上鍍膜更加均勻，可以提高裝置的鍍膜質量，從而可以提高產品的質量，惰性氣體罐與固定箱之間設置有定位結構，可以提高安裝惰性氣體罐時的準確度。

技術領域

本實用新型涉及涂層生產技術領域，具體為一種離子濺射裝置。

背景技術

濺射工藝是以一定能量的粒子轟擊固體表面，使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝，濺射只能在一定的真空狀態下進行，濺射鍍膜最初出現的是簡單的直流二極濺射，它的優點是裝置簡單，磁控濺射是由二極濺射基礎上發展而來，在靶材表面建立與電場正交磁場，解決了二極濺射沉積速率低，等離子體離化率低等問題，成為鍍膜工業主要方法之一。

中國專利公開了一種離子濺射鍍膜裝置（公開號：CN202730223U），該專利包括真空鍍膜室及位于真空鍍膜室一側的用于發射濺射離子的等離子發射裝置，真空鍍膜室的內空間容置有的位于真空鍍膜室頂部的基板、位于真空鍍膜室底部的托盤、位于托盤上的靶材及位于托盤一側的輔助離子發射裝置，輔助離子發射裝置的發射口正對于基板板面，等離子發射裝置的端口與真空鍍膜的內空間連通，且等離子發射裝置的端口繞有發射電磁線圈。

現有的離子濺射裝置在工作時，需要使用惰性氣體，為裝置內部提供所需的工作環境，但是現有的離子濺射裝置安裝惰性氣體罐時不方便，更換和安裝效率較慢，同時現有的鍍膜工件大多固定在轉置內部，但是裝置內部的電廠不穩定，會導致工件上鍍膜不均勻。

實用新型內容

針對現有技術的不足，本實用新型提供了一種離子濺射裝置，解決了現有的離子濺射裝置在工作時，需要使用惰性氣體，為裝置內部提供所需的工作環境，但是現有的離子濺射裝置安裝惰性氣體罐時不方便，更換和安裝效率較慢，同時現有的鍍膜工件大多固定在轉置內部，但是裝置內部的電廠不穩定，會導致工件上鍍膜不均勻的問題。

為實現以上目的，本實用新型通過以下技術方案予以實現：一種離子濺射裝置，包括加工箱、等離子發射器和偏轉電磁線圈，所述加工箱的前表面通過合頁鉸接有密封門，且加工箱的一側固定連接有等離子發射器，所述加工箱內部的底端固定連接有托盤，且加工箱內部靠近托盤的一側固定連接有輔助離子發射器，所述加工箱內部靠近托盤的下側固定連接有偏轉電磁線圈，所述托盤的內部固定連接有靶材，所述加工箱上表面的一側固定連接有真空泵，且加工箱上表面的中間部位固定連接有電機，所述加工箱的另一側滑動連接有固定箱，所述固定箱的內部嵌入連接有惰性氣體罐，所述加工箱內部的頂端固定連接有固定盒，所述固定盒的下表面滑動連接有夾持器。

優選的，所述電機位于固定盒內部的一端固定連接有固定齒盤，所述固定盒的內壁固定連接有卡齒，所述夾持器頂端與固定盒和固定齒盤嚙合連接。

優選的，所述加工箱側面與惰性氣體罐連接的部位固定連接有連接管，且加工箱側面靠近連接管的下側固定連接有限位桿，所述固定箱的底端滑動連接在限位桿的外側。

優選的，所述加工箱側面靠近限位桿的下側固定連接有固定管，所述固定管的外側滑動連接有滑動管，且固定管與滑動管之間固定連接有復位彈簧，所述滑動管的底端與固定箱的下表面固定連接。

優選的，所述固定箱的上表面設置有凸起部位，所述惰性氣體罐的下表面開設有與固定箱凸起部位對應的凹陷部位，且惰性氣體罐的出氣部位嵌入在連接管的內部。