[實(shí)用新型]一種流延干燥設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201922321943.5
• 申請日: 2019-12-20
• 公開（公告）號(hào): CN211373147U
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃雪云;邱基華;江楠
• 申請（專利權(quán)）人: 南充三環(huán)電子有限公司;潮州三環(huán)（集團(tuán)）股份有限公司
• 主分類號(hào): F26B17/04
• 分類號(hào): F26B17/04;F26B21/00;F26B23/00;F26B25/18;F26B25/00
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;王蘭蘭

本實(shí)用新型涉及電子陶瓷制造領(lǐng)域，尤其涉及一種流延干燥設(shè)備，包括溫度控制單元、進(jìn)料傳送帶、加熱箱以及加熱裝置，加熱裝置與溫度控制單元電連接，加熱箱通過分隔板分隔形成至少兩個(gè)沿進(jìn)料傳送帶的傳送方向依次布置的加熱腔，至少一個(gè)加熱腔設(shè)有加熱裝置，進(jìn)料傳送帶貫穿所述加熱腔，加熱裝置包括上加熱機(jī)構(gòu)和下加熱機(jī)構(gòu)，上加熱機(jī)構(gòu)設(shè)置于進(jìn)料傳送帶上方，下加熱機(jī)構(gòu)設(shè)置于進(jìn)料傳送帶下方。本實(shí)用新型形成分段干燥，提高產(chǎn)品生產(chǎn)的合格率和質(zhì)量；同時(shí)，通過上加熱機(jī)構(gòu)和下加熱機(jī)構(gòu)對流延漿料的上下表面同時(shí)進(jìn)行加熱，加快流延漿料干燥的速度，實(shí)現(xiàn)流延漿料同一截面中溶劑的揮發(fā)均勻性，提高產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及電子陶瓷制造領(lǐng)域，尤其涉及一種流延干燥設(shè)備。

背景技術(shù)

流延成型工藝具有設(shè)備簡單、連續(xù)生產(chǎn)效率高、性能均一、產(chǎn)品缺陷小等一系列優(yōu)點(diǎn)，因此被廣泛應(yīng)用于陶瓷基板、陶瓷電容器等領(lǐng)域。其中，陶瓷基板包括但不僅限于氧化鋁基板、氮化鋁基板、氮化硅基板、碳化硅基板等；陶瓷電容器包括但不僅限于高頻陶瓷電容器和高介電陶瓷電容器。在流延成型中，先將粉體、溶劑和其它添加劑混合成流延漿料，再將漿料注入流延機(jī)頭，漿料以一定的厚度被刮壓涂覆在承載膜帶上，隨后漿料進(jìn)入干燥區(qū)將溶劑烘干，使?jié){料干燥固化，最后通過起膜刀與承載膜帶分離，干燥后的漿料即制得流延生坯。

目前，干燥區(qū)對流延漿料的烘干主要采用熱風(fēng)加熱系統(tǒng)，其原理為：通過電阻元件加熱空氣，再將熱風(fēng)通過送風(fēng)管道進(jìn)入流延機(jī)烘干區(qū)，吹向流延漿料上表面，促進(jìn)漿料中溶劑的揮發(fā)干燥。

現(xiàn)有主流技術(shù)中，僅在流延帶上方設(shè)置保溫罩和單一的電加熱或輻射加熱系統(tǒng)的方式，這種方式的弊端在于：

1)加熱均勻性差，由于流延機(jī)由熱風(fēng)提供溶劑揮發(fā)的熱量，當(dāng)熱風(fēng)經(jīng)送風(fēng)管道吹向漿料表面時(shí)，風(fēng)速截面的均勻性難以保證，因此流延機(jī)箱內(nèi)部截面的溫度均勻性較差，往往呈現(xiàn)橫截面兩側(cè)溫度低，中間溫度高的現(xiàn)象。溫度的不均勻直接導(dǎo)致產(chǎn)品的開裂和翹曲。

2)干燥速率慢，氣流只從流延漿料上表面流動(dòng)，其基帶下表面干燥難度大，且耗時(shí)長。

3)加熱穩(wěn)定性差，現(xiàn)有技術(shù)中采用單一的熱風(fēng)傳送源，被加熱至設(shè)定溫度的熱風(fēng)進(jìn)入流延機(jī)后，隨熱風(fēng)向前流動(dòng)，其溫度熱風(fēng)的傳送速度難以控制，波動(dòng)起伏較大，不利于陶瓷生坯的精準(zhǔn)干燥，甚至容易引起陶瓷生坯與膜帶的分離。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供有助于提高流延漿料加熱均勻性，提高產(chǎn)品生產(chǎn)質(zhì)量，并提高產(chǎn)品生產(chǎn)效率的一種流延干燥設(shè)備。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種流延干燥設(shè)備，包括溫度控制單元、進(jìn)料傳送帶、加熱箱以及設(shè)置于所述加熱箱內(nèi)的加熱裝置，所述加熱裝置與所述溫度控制單元電連接，所述加熱箱通過分隔板分隔形成至少兩個(gè)沿所述進(jìn)料傳送帶的傳送方向依次布置的加熱腔，至少一個(gè)所述加熱腔設(shè)有所述加熱裝置，所述進(jìn)料傳送帶貫穿所述加熱腔，所述加熱裝置包括上加熱機(jī)構(gòu)和下加熱機(jī)構(gòu)，所述上加熱機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述進(jìn)料傳送帶上方，所述下加熱機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述進(jìn)料傳送帶下方。

可選的，最靠近所述加熱箱進(jìn)料端的加熱腔未設(shè)有加熱裝置，其余加熱腔均設(shè)有加熱裝置。

可選的，其中一個(gè)所述加熱腔設(shè)有進(jìn)風(fēng)口，其余所述加熱腔設(shè)有排風(fēng)口，所述進(jìn)風(fēng)口連接有送風(fēng)單元，所述分隔板開設(shè)有用于進(jìn)料傳送帶以及相鄰加熱腔之間空氣流動(dòng)的第一通孔。

可選的，所述進(jìn)風(fēng)口設(shè)置于靠近所述加熱箱出料端的加熱腔；所述排風(fēng)口連接有用于溶劑回收的冷凝管和抽風(fēng)機(jī)。

可選的，至少兩個(gè)的所述加熱腔的長邊長度不完全相同。

可選的，所述加熱腔的數(shù)量至少為三個(gè)，沿進(jìn)料傳送帶傳送方向，所述加熱腔的長邊長度先增大后減小。

可選的，最靠近傳送帶出料端的加熱腔長邊長度大于最靠近傳送帶進(jìn)料端加熱腔的長邊長度。