[實用新型]一種五氧化三鈦真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201922320853.4
• 申請日: 2019-12-23
• 公開（公告）號: CN211142141U
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 汪韜;李云
• 申請（專利權）人: 安徽南芯電子科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/08;C23C14/54;C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種五氧化三鈦真空鍍膜裝置，其特征在于；包括設備底座(1)、鍍膜機體(2)、鍍膜倉(3)、蒸發倉(4)、蒸發裝置(5)、鍍膜架(6)和密封鍍膜門(7)；所述設備底座(1)固定在地面上，所述設備底座(1)上設置有鍍膜機體(2)，所述鍍膜機體(2)內部設置有若干個鍍膜倉(3)，所述鍍膜倉(3)內部密封，所述鍍膜倉(3)下部加工有蒸發倉(4)，所述蒸發倉(4)內部設置有蒸發裝置(5)，所述鍍膜倉(3)頂端通過若干組高壓管路與抽真空機連接，所述鍍膜倉(3)內設置有若干組移動軌道(3-1)，所述移動軌道(3-1)上設置有所述鍍膜架(6)，所述鍍膜架(6)的端部設置有密封鍍膜門(7)，所述密封鍍膜門(7)上設置有真空密封圈(7-1)，所述鍍膜倉(3)的端部加工有與所述真空密封圈(7-1)配合的密封凹槽(3-2)，所述密封鍍膜門(7)外端設置有伸縮支撐裝置(8)。

2.根據權利要求1所述的一種五氧化三鈦真空鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜倉(3)為筒型密封倉，所述密封倉壁為高強度密封倉壁；

所述蒸發倉(4)為與一組與所述鍍膜倉(3)垂直的筒型密封倉，所述蒸發倉(4)底部設置有蒸發裝置(5)。

3.根據權利要求2所述的一種五氧化三鈦真空鍍膜裝置，其特征在于，所述蒸發裝置(5)包括一組升降液壓缸(5-1)，所述升降液壓缸(5-1)設置在所述蒸發倉(4)底部，所述升降液壓缸(5-1)頂端設置有蒸發坩堝(5-2)，所述蒸發坩堝(5-2)內設置有蒸發加熱網(5-3)，所述蒸發加熱網(5-3)設置布置在所述蒸發坩堝(5-2)內端面上。

4.根據權利要求3所述的一種五氧化三鈦真空鍍膜裝置，其特征在于，所述蒸發加熱網(5-3)由若干組并聯設置的加熱電阻絲組成。

5.根據權利要求1所述的一種五氧化三鈦真空鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜架(6)三組鍍膜主架(6-1)，三組鍍膜主架(6-1)之間通過一組水平設置的中間放置架(6-2)連接，所述中間放置架(6-2)上設置有若干組鍍膜放置架(6-3)，所述中間放置架(6-2)的端部與一組密封鍍膜門(7)固定連接，所述鍍膜主架(6-1)外端設置有若干組移動滑塊(6-4)，所述移動滑塊(6-4)上加工有與所述移動軌道(3-1)對應的移動孔，所述鍍膜主架(6-1)均通過所述移動孔與所述移動軌道(3-1)的配合關系設置在所述移動軌道(3-1)上。

6.根據權利要求1所述的一種五氧化三鈦真空鍍膜裝置，其特征在于，所述伸縮支撐裝置(8)包括兩組伸縮氣缸(8-1)，所述伸縮氣缸(8-1)對稱設置在所述密封鍍膜門(7)上，所述伸縮氣缸(8-1)的活動端設置有支撐腿(8-2)，所述支撐腿(8-2)的底端設置有支撐板(8-3)。

7.根據權利要求6所述的一種五氧化三鈦真空鍍膜裝置，其特征在于，所述伸縮氣缸(8-1)為無桿氣缸。

8.根據權利要求1所述的一種五氧化三鈦真空鍍膜裝置，其特征在于，所述密封鍍膜門(7)下端還與一組伸縮支撐架(9)固定連接，所述伸縮支撐架(9)下端設置有移動滾輪(9-1)，所述伸縮支撐架(9)設置在所述鍍膜機體(2)下端加工的放置槽內。