[實用新型]一種真空鍍膜機的腔室氣體阻流裝置

有效

• 申請號: 201922307331.0
• 申請日: 2019-12-19
• 公開（公告）號: CN211142160U
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 阮志明;封文炎;吳敬超;林敏;賴鴻飛;廖俊峰;王波;魏城峰
• 申請（專利權）人: 深圳市正和忠信股份有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/50
• 代理公司: 中山市興華粵專利代理有限公司 44345
• 代理人: 鄧愛軍

1.一種真空鍍膜機的腔室氣體阻流裝置，包括真空腔(1)；

其特征在于：

所述真空腔(1)的兩側分別連通有上料腔(2)和下料腔(3)，所述上料腔(2)和下料腔(3)遠離真空腔(1)的一側均開設開口，且上料腔(2)和下料腔(3)靠近開口的位置轉動連接有密封蓋(4)，所述上料腔(2)和下料腔(3)的一側側壁均通過氣管連通有真空泵(5)，且上料腔(2)和下料腔(3)靠近真空腔(1)的一側均轉動連接有擋板(6)，所述擋板(6)的側壁上端側壁嵌設有橡膠膜(7)，且橡膠膜(7)遠離真空腔(1)的側壁固定連接有觸碰球(8)，所述上料腔(2)和下料腔(3)的內壁均固定連接有壓力感應開關(9)，且壓力感應開關(9)與觸碰球(8)相抵設置，上料腔(2)和下料腔(3)的內壁均固定連接有液壓推桿(10)，且液壓推桿(10)的側壁與擋板(6)固定連接。

2.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜機的腔室氣體阻流裝置，其特征在于：所述上料腔(2)、真空腔(1)和下料腔(3)的上端內壁均開設有滑槽，且滑槽內滑動連接有三根水平設置的橫桿(11)，所述橫桿(11)的下端固定連接有豎直設置的物料支架(12)，且橫桿(11)的兩端均固定連接有永磁體(13)。

3.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜機的腔室氣體阻流裝置，其特征在于：所述密封蓋(4)的側壁包裹有橡膠密封墊，且密封蓋(4)的側壁嵌設有泄壓閥。

4.根據權利要求2所述的一種真空鍍膜機的腔室氣體阻流裝置，其特征在于：三根所述橫桿(11)的上表面開設有齒槽(14)，且上料腔(2)的上表面轉動連接有與齒槽(14)嚙合的齒輪(15)。

5.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜機的腔室氣體阻流裝置，其特征在于：所述擋板(6)的四周套設有密封墊，且擋板(6)的材質為非磁性金屬。

6.根據權利要求2所述的一種真空鍍膜機的腔室氣體阻流裝置，其特征在于：所述上料腔(2)和下料腔(3)靠近滑槽的側壁均開設有讓位槽(16)，且讓位槽(16)和擋板(6)為過盈配合。