[實(shí)用新型]襯底臺(tái)、光刻設(shè)備和液體限制系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201922170733.0
• 申請(qǐng)日: 2019-12-06
• 公開（公告）號(hào): CN213122596U
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: T·波耶茲;B·D·斯霍爾滕;D·W·哈伯特;L·H·J·斯蒂文斯;L·M·費(fèi)爾南德斯迪亞茲;J·A·C·M·皮耶寧堡;A·A·索圖特;W·J·J·韋爾特斯;J·M·W·范德溫克爾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張啟程

公開了一種襯底臺(tái)、一種光刻設(shè)備和一種液體限制系統(tǒng)。提供了一種用于浸沒系統(tǒng)的襯底臺(tái)，所述浸沒系統(tǒng)包括：投影系統(tǒng)，布置成將圖像投影到襯底上；和液體限制系統(tǒng)，配置成將浸沒液體限制在所述投影系統(tǒng)和所述襯底之間的空間中。所述襯底臺(tái)包括：襯底保持器，配置成保持襯底；和電流控制裝置，布置成在所述浸沒液體被限制在所述空間中的同時(shí)減小在所述襯底和所述襯底保持器之間流動(dòng)的電流。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種襯底臺(tái)、一種光刻設(shè)備和一種液體限制系統(tǒng)，尤其涉及一種浸沒型光刻設(shè)備。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種構(gòu)造為將所期望的圖案施加到襯底上的機(jī)器。光刻設(shè)備可以例如用于集成電路(IC)的制造中。光刻設(shè)備可例如將圖案形成裝置(例如，掩模)的圖案(也經(jīng)常稱為“設(shè)計(jì)布局”或“設(shè)計(jì)”)投影到設(shè)置在襯底(例如，晶片)上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。

隨著半導(dǎo)體制造過程持續(xù)進(jìn)步，幾十年來，電路元件的尺寸已經(jīng)不斷地減小的同時(shí)每一個(gè)器件的功能元件(諸如晶體管)的量已經(jīng)在穩(wěn)定地增加，這遵循著通常稱為“莫爾定律(Moore’s law)”的趨勢(shì)。為了跟上莫爾定律，半導(dǎo)體行業(yè)正在追尋能夠創(chuàng)建越來越小的特征的技術(shù)。為了將圖案投影到襯底上，光刻設(shè)備可以使用電磁輻射。這種輻射的波長確定在襯底上圖案化的特征的最小尺寸。當(dāng)前使用的典型的波長是365nm(i線)、248nm、193nm和13.5nm。

在浸沒式光刻設(shè)備中，將浸沒液體介于設(shè)備的投影系統(tǒng)和襯底之間的空間中。在本說明書中，將在描述中參考局部浸沒，其中在使用時(shí)浸沒液體被限制在投影系統(tǒng)和面向投影系統(tǒng)的表面之間的空間。面向表面是襯底的表面或與襯底表面共面的支撐平臺(tái)(或襯底臺(tái))的表面。(請(qǐng)注意，下文中對(duì)“襯底表面”的任何參考也指襯底臺(tái)的表面的補(bǔ)充或替代，除非另有明確說明；反之亦然。)投影系統(tǒng)和平臺(tái)之間存在的流體處理結(jié)構(gòu)用于將浸沒液體限制在浸沒空間中。由液體填充的空間在平面上小于襯底的頂表面，并且當(dāng)襯底和襯底平臺(tái)在下面移動(dòng)時(shí)，該空間相對(duì)于投影系統(tǒng)基本上保持靜止。

在光刻設(shè)備中，將要曝光的襯底(可以稱為生產(chǎn)襯底)保持在襯底保持器(有時(shí)稱為晶片臺(tái))上。襯底保持器可以被支撐在相對(duì)于投影系統(tǒng)可移動(dòng)的襯底臺(tái)上。襯底保持器通常包括由剛性材料制成的實(shí)心主體，其在平面上具有與要支撐的生產(chǎn)襯底相似的尺寸。實(shí)心主體的面向襯底的表面設(shè)置有多個(gè)突起(稱為突節(jié))。突節(jié)的遠(yuǎn)端表面與平坦平面相吻合或遵循一平坦平面并且支撐所述襯底。突節(jié)提供幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)：襯底保持器上的污染物粒子可能落在多個(gè)突節(jié)之間，因此不會(huì)引起襯底變形；與使實(shí)心主體表面平坦相比，機(jī)加工突節(jié)使其端部與平面相吻合更容易；突節(jié)的屬性可以被調(diào)整，以例如控制襯底的夾持。

然而，在使用期間，例如由于反復(fù)裝載和卸載襯底，襯底保持器的突節(jié)會(huì)磨損。突節(jié)的不均勻磨損導(dǎo)致曝光期間襯底的不平整，這會(huì)導(dǎo)致過程窗口的減小，在極端情況下會(huì)導(dǎo)致成像誤差。由于非常精確的制造規(guī)格，襯底保持器的制造成本很高，因此期望增加襯底保持器的使用壽命。

實(shí)用新型內(nèi)容

期望例如提供一種用于減少襯底保持器的磨損的改進(jìn)的方式，尤其是減少在浸沒型光刻設(shè)備中的襯底保持器的磨損的改進(jìn)的方式。

根據(jù)一方面，提供了一種用于浸沒系統(tǒng)的襯底臺(tái)，所述浸沒系統(tǒng)包括：投影系統(tǒng)，布置成將圖像投影到襯底上；和液體限制系統(tǒng)，配置成將浸沒液體限制在所述投影系統(tǒng)和所述襯底之間的空間中，所述襯底臺(tái)包括：襯底保持器，配置成保持所述襯底；和電流控制裝置，布置成在所述浸沒液體被限制在所述空間中的同時(shí)減小在所述襯底和所述襯底保持器之間流動(dòng)的電流。

根據(jù)一方面，提供了一種光刻設(shè)備，包括：根據(jù)上述方面的襯底臺(tái)；投影系統(tǒng)，布置成將圖像投影到由所述襯底保持器保持的襯底上；和液體限制系統(tǒng)，配置成將浸沒液體限制在所述投影系統(tǒng)和所述襯底之間的空間中。