[實用新型]襯底臺、光刻設備和液體限制系統

有效

• 申請號: 201922170733.0
• 申請日: 2019-12-06
• 公開（公告）號: CN213122596U
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發明（設計）人: T·波耶茲;B·D·斯霍爾滕;D·W·哈伯特;L·H·J·斯蒂文斯;L·M·費爾南德斯迪亞茲;J·A·C·M·皮耶寧堡;A·A·索圖特;W·J·J·韋爾特斯;J·M·W·范德溫克爾
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種用于浸沒系統的襯底臺，所述浸沒系統包括：投影系統，布置成將圖像投影到襯底上；液體限制系統，配置成將浸沒液體限制在所述投影系統和所述襯底之間的空間中；和襯底保持器，配置成保持所述襯底，其特征是，所述襯底臺包括：

電流控制裝置，布置成在所述浸沒液體被限制在所述空間中的同時減小在所述襯底和所述襯底保持器之間流動的電流。

2.根據權利要求1所述的襯底臺，其特征是，所述電流控制裝置在所述襯底保持器和地面之間和/或在所述液體限制系統和地面之間提供大于100kΩ的阻抗。

3.根據權利要求2所述的襯底臺，其特征是，所述阻抗大于10MΩ。

4.根據權利要求2所述的襯底臺，其特征是，所述阻抗是可變的，并且所述電流控制裝置還包括用以控制所述阻抗的控制器。

5.根據權利要求1所述的襯底臺，其特征是，所述電流控制裝置包括電源，所述電源連接至以下中的至少一個：所述襯底保持器、所述襯底臺和所述液體限制系統。

6.根據權利要求5所述的襯底臺，其特征是，所述電流控制裝置還包括：

電流檢測器，所述電流檢測器檢測所述襯底保持器和地面之間和/或所述液體限制系統和地面之間的電流；和

控制器，所述控制器基于電流的檢測控制所述電源。

7.根據權利要求4所述的襯底臺，其特征是，所述電流控制裝置還包括電流檢測器，所述電流檢測器檢測所述襯底保持器和地面之間和/或所述液體限制系統和地面之間的電流，所述控制器配置成基于電流的檢測控制所述阻抗。

8.根據權利要求5所述的襯底臺，其特征是，所述電流控制裝置還包括：

電壓傳感器，所述電壓傳感器測量所述襯底、所述襯底保持器和/或所述液體限制系統的一部分的電勢；和

控制器，所述控制器基于測量的電勢控制所述電源。

9.根據權利要求4所述的襯底臺，其特征是，所述電流控制裝置還包括電壓傳感器，所述電壓傳感器測量所述襯底、所述襯底保持器和/或所述液體限制系統的一部分的電勢，所述控制器配置成基于測量的電勢控制所述阻抗。

10.根據權利要求8所述的襯底臺，其特征是，所述電壓傳感器布置成測量所述襯底的下表面的電勢；并且所述電源連接至所述襯底保持器或所述襯底臺。

11.根據權利要求9所述的襯底臺，其特征是，所述電壓傳感器布置成測量所述襯底的下表面的電勢；并且所述電流控制裝置包括電源，所述電源連接至所述襯底保持器或所述襯底臺。

12.根據權利要求8所述的襯底臺，其特征是，所述電壓傳感器布置成測量所述襯底的上表面的電勢；并且所述電源連接至所述液體限制系統。

13.根據權利要求9所述的襯底臺，其特征是，所述電壓傳感器布置成測量所述襯底的上表面的電勢；并且所述電流控制裝置包括電源，所述電源連接至所述液體限制系統。

14.根據權利要求1-13中任一項所述的襯底臺，其特征是，所述襯底臺還包括電加熱器，配置成加熱所述襯底的至少一部分，其中所述電流控制裝置包括接地屏蔽件，所述接地屏蔽件布置在所述電加熱器和所述襯底保持器之間。

15.根據權利要求1-13中任一項所述的襯底臺，其特征是，所述電流控制裝置包括導體，所述導體配置成接觸所述襯底以在所述襯底和地面之間提供直接的電氣路徑。

16.根據權利要求15所述的襯底臺，其特征是，所述導體包括突節，所述突節具有硬導電涂層而沒有絕緣外層。