[實用新型]一種研磨廢水零排放一體化處理裝置

有效

• 申請號: 201922144506.0
• 申請日: 2019-12-04
• 公開（公告）號: CN211226620U
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發明（設計）人: 韓驥東;陳啟偉;陳素寧
• 申請（專利權）人: 天津特立環?？萍加邢薰?/a>
• 主分類號: C02F9/02
• 分類號: C02F9/02;C02F11/121
• 代理公司: 天津睿勤專利代理事務所(普通合伙) 12225
• 代理人: 孟福成

本實用新型公開一種研磨廢水零排放一體化處理裝置，包括收集系統、回收處理系統、脫泥系統和反洗系統，所述回收處理系統與所述收集系統、脫泥系統和反洗系統連接，所述收集系統包括收集水箱和研磨廢水輸送泵，所述回收處理系統包括布袋過濾器、回收UF裝置和產水泵，所述研磨廢水輸送泵的進水端與所述收集水箱連接，出水端與所述布袋過濾器連接，所述布袋過濾器與回收UF裝置連接，所述回收UF裝置與所述產水泵連接。本實用新型為一體化的集成裝置，采用浸沒式超濾膜處理技術，污泥濾液回到超濾膜處理單元再次進行處理，實現對研磨廢水零排放運行目標；不需投加化學藥劑，可大大減少廢水處理站建設投資成本和運行成本。

技術領域

本實用新型屬于水處理技術領域，特別涉及一種研磨廢水零排放一體化處理裝置。

背景技術

隨著經濟水平的逐漸提高，我國各項發展項目正在進行積極穩定的發展。在國家的發展過程中，半導體行業是新出現并快速進步的一個生產行業，是受到較為重視的一項內容。半導體隨著IC元件逐漸采用小尺寸、高聚集化的多層立體布線后，對平坦化技術的需求顯得更重要，化學機械研磨(CMP)工藝也因此逐漸被廣泛使用，這樣就產生了大量的研磨廢水(CMP廢水)。國內半導體廠CMP用水量約占總用水量的5-25％，CMP廢水排放量約在50-500噸左右不等，其隨著工廠規模和產能變化而有所差異。研磨廢水若處理不當直接排放容易造成環境污染；研磨廢水量較大，若不加以回收利用則造成水資源浪費等問題。

研磨廢水中的主要污染物為懸浮顆粒物(硅粉類)，此類廢水的特點是懸浮物濃度和濁度較高，顆粒粒徑較小，處于膠體穩定狀態。研磨過程中由于研磨液及清洗劑的加入，超純水沖洗后又混入研磨料，因此研磨廢水成分較為復雜，含有多種有機物和無機物。

目前大部分半導體廠采用傳統的化學混凝沉淀處理方式，此種處理工藝存在設備復雜，占地面積大，投資及運行費用高，操作復雜，對極細小的懸浮物處理效果不佳等缺點，且處理水大部分直接排放并未予以回收利用。另外，由于化學藥品的大量攝入，不僅會產生更多的污泥，也提高了設備運行成本及污泥處置費用。

發明內容

本實用新型針對現有技術中存在的技術問題，提供一種研磨廢水零排放一體化處理裝置，采用浸沒式超濾膜處理技術，研磨廢水經處理后可以回用；過濾污泥經脫水處理后外運，污泥濾液回到超濾膜處理單元再次進行處理，實現對研磨廢水零排放運行目標，出水水質亦符合相應的標準。本實用新型不需投加化學藥劑，可大大減少廢水處理站建設投資成本和運行成本；是一種系統結構緊湊、占地面積小、自動化控制、高效節能的研磨廢水零排放處理裝置。

本實用新型采用的技術方案是：一種研磨廢水零排放一體化處理裝置，包括收集系統、回收處理系統、脫泥系統和反洗系統，所述回收處理系統與所述收集系統、脫泥系統和反洗系統連接，所述收集系統包括收集水箱和研磨廢水輸送泵，所述回收處理系統包括布袋過濾器、回收UF裝置和產水泵，所述研磨廢水輸送泵的進水端與所述收集水箱連接，出水端與所述布袋過濾器連接，所述布袋過濾器與回收UF裝置連接，所述回收UF裝置與所述產水泵連接。

作為優選，所述脫泥系統包括脫水機和污泥泵，所述污泥泵分別與所述回收UF裝置、脫水機連接，所述脫水機通過濾液回流管道與所述回收UF裝置連接。

作為優選，所述反洗系統包括反洗水泵、反洗管道、壓縮空氣管道、加藥泵和加藥箱，所述反洗管道分別與所述反洗水泵、加藥泵和回收UF裝置連接，所述加藥泵與所述加藥箱連接，所述壓縮空氣管道與所述回收UF裝置連接。

工作原理：研磨廢水經過進水管道進入收集水箱，經過均質均量后由研磨廢水輸送泵提升進入布袋過濾器，研磨廢水經過布袋過濾器預處理過濾，去除大顆粒的懸浮物后進入回收UF裝置，經超濾膜過濾后由產水泵抽吸輸送至回用點。超濾膜過濾攔截的懸浮物沉積于回收UF裝置底部，通過污泥泵輸送至脫水機，污泥經脫水機脫水后泥餅外運處理，濾液經濾液回流管道回到回收UF裝置進行再次處理。