[實用新型]一種硅片清洗設備

有效

• 申請號: 201922014319.0
• 申請日: 2019-11-20
• 公開（公告）號: CN211100448U
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發明（設計）人: 左國軍;成旭;李雄朋;任金枝
• 申請（專利權）人: 常州捷佳創精密機械有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/10;B08B11/00;B08B13/00;F26B21/00
• 代理公司: 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙) 11343
• 代理人: 汪海屏;劉瀟

本實用新型提供了一種硅片清洗設備，包括：框架組件；工藝機構，設于框架組件中，數量為至少兩個，適于對硅片進行工藝處理；傳輸組件，與框架組件連接，并適于沿框架組件移動并傳輸硅片，以使得硅片由任一工藝機構移動至任另一工藝機構；隔離組件，設于框架組件中，通過在開啟狀態和關閉狀態之間切換，以使得任一工藝機構的內部空間與外部空間相互連通或相互分隔；其中，工藝機構包括至少一個的清洗組件和至少一個的烘干組件，清洗組件適于對硅片進行清洗，烘干組件適于對硅片進行烘干，清洗組件中設有勻流裝置。本實用新型能夠提高硅片的清洗效率和清洗質量。

技術領域

本實用新型涉及太陽能電池制造的技術領域，具體而言，涉及一種硅片清洗設備。

背景技術

近年來，太陽能作為清潔環保能源，在諸多領域得到了廣泛地應用。硅片是太陽能光伏產業中最為普遍的元件，其在生產流程中需要進行多道工序處理，從而保證硅片的光電轉換效果。在眾多處理工序中，硅片表面的制絨清洗工序是將硅片浸入到酸液池或堿液池中發生一系列化學反應的過程。通常情況下，對硅片進行堿液處理是為了得到金字塔狀絨面，對硅片進行酸液處理是為了得到蟲孔狀絨面。進行高質量的絨面處理可以提高硅片的陷光作用，使得入射光在硅片表面多次反射和折射，增加了光吸收，降低了反射率，有助于提高電池的性能。因此，制絨清洗工序中所采用的硅片清洗設備對硅片的生產制造有著至關重要的影響。

實用新型內容

本實用新型旨在解決上述技術問題的至少之一。

為此，本實用新型的目的在于提供一種清洗設備。包括：框架組件；工藝機構，設于框架組件中，數量為至少兩個，適于對硅片進行工藝處理；傳輸組件，與框架組件連接，并適于沿框架組件移動并傳輸硅片，以使得硅片由任一工藝機構移動至任另一工藝機構；隔離組件，設于框架組件中，通過在開啟狀態和關閉狀態之間切換，以使得任一工藝機構的內部空間與外部空間相互連通或相互分隔；其中，工藝機構包括至少一個的清洗組件和至少一個的烘干組件，清洗組件適于對硅片進行清洗，烘干組件適于對硅片進行烘干，清洗組件中設有一個或多個的勻流裝置。

清洗組件中設有勻流裝置。勻流裝置的設置可使清洗組件內液體均勻流動，使清洗組件內各部分液體的濃度相互一致，由此實現清洗組件內液體的均質循環流動，以保證均勻地對硅片進行清洗。此外，可有效避免硅片絨面工藝不穩定的弊端，提高硅片的質量和產能。框架組件的設置便于對工藝機構和傳輸組件進行安裝固定。以便使得傳輸組件能夠沿著各個工藝機構進行順次往復移動。隔離組件可提高各個工藝機構內部彼此的酸堿氣隔絕效果，減少相鄰工藝機構之間的酸堿氣對彼此造成互相干擾，或對硅片造成影響。硅片清洗設備通過框架組件、工藝機構和傳輸組件共同組建構成自動化的生產線，通過采用傳輸組件對硅片進行傳輸，使得硅片能夠在各個工藝機構之間靈活和連續地移動，由此提高了清洗工序的自動化程度和生產效率。

另外，本實用新型提供的上述實施例提供的技術方案還可以具有如下附加技術特征：

上述技術方案中，清洗組件包括：主清洗槽，設有連通部；副清洗槽，環繞主清洗槽設置，并通過連通部與主清洗槽連通；其中，勻流裝置設于主清洗槽中。

主清洗槽設有連通部。并且主清洗槽通過連通部與副清洗槽連通。副清洗槽環繞主清洗槽并且兩者相互連通。勻流裝置設于主清洗槽中。硅片分別在主清洗槽和副清洗槽中清洗。勻流裝置和連通結構使清洗槽中的液體更加均勻一致。

上述任一技術方案中，清洗組件還包括：循環管，部分或全部地設于主清洗槽，并分別與主清洗槽和副清洗槽連通；循環泵，設于循環管中，驅動液體通過循環管在主清洗槽和副清洗槽之間循環；其中，勻流裝置設于循環管的上方。

本技術方案通過循環泵驅動液體由副清洗槽進入循環管，并通過循環管向主清洗槽中排出。主清洗槽中不斷流動循環的液體可對硅片進行均勻而徹底地清洗，由此可提高清洗工序的清洗質量，提高硅片的成品率。