[實用新型]一種納米級薄膜圖案電化學(xué)刻蝕加工系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921995375.0
• 申請日: 2019-11-18
• 公開（公告）號: CN211595030U
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 賀晶瑩
• 申請（專利權(quán)）人: 邳州市鑫盛創(chuàng)業(yè)投資有限公司
• 主分類號: B81C1/00
• 分類號: B81C1/00;B82Y40/00
• 代理公司: 南京聚匠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32339
• 代理人: 沈菊

1.一種納米級薄膜圖案電化學(xué)刻蝕加工系統(tǒng)，包括具有納米級孔徑的毛細管(1)、電解液暫存容器(2)、支撐密閉箱(6)、運動定位平臺(7)、減震平臺(9)和加工件放置基座(10)；其特征在于所述支撐密閉箱(6)和所述運動定位平臺(7)放置在所述減震平臺(9)，所述支撐密閉箱(6)位于所述運動定位平臺(7)正上方且通過軟連接結(jié)合在一起，所述電解液暫存容器(2)安裝在所述支撐密閉箱(6)的上端且大部分處于其內(nèi)部，所述具有納米級孔徑的毛細管(1)密封地連接在所述電解液暫存容器(2)的下端，所述加工件放置基座(10)由高絕緣材料制作且位于所述具有納米級孔徑的毛細管(1)的下方，且連接在所述運動定位平臺(7)的正上方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米級薄膜圖案電化學(xué)刻蝕加工系統(tǒng)，其特征在于納米級孔徑毛細管(1)，包括細端(11)和粗端(12)，所述細端(11)孔徑可達10-20nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米級薄膜圖案電化學(xué)刻蝕加工系統(tǒng)，其特征在于電解液暫存容器(2)，包括下端的快速插拔口(21)和上端的電解陽極口(22)和電解液入口(23)，內(nèi)盛有刻蝕對應(yīng)薄膜材料的電解液，所述電解液暫存容器(2)的電解液入口(23)通過連接軟管(41)與電解液流出控制系統(tǒng)(4)連接；所述電解陽極口(22)內(nèi)安裝有電解系統(tǒng)(3)的電解陽極(31)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種納米級薄膜圖案電化學(xué)刻蝕加工系統(tǒng)，其特征在于電解系統(tǒng)(3)，包括通過導(dǎo)線依次連接的電解陽極(31)、直流穩(wěn)壓電源(32)、微電流傳感器(33)和陰極固定裝置(34)，所述電解陽極(31)的上端安裝于電解陽極口(22)大部分浸沒所述電解液暫存容器(2)內(nèi)電解液中，所述微電流傳感器(33)的信號輸出端連接到控制計算機(111)上，所述陰極固定裝置(34)固定于加工件放置基座(10)的四周，所述陰極固定裝置(34) 由高導(dǎo)電材料制作而成，且接觸被加工薄膜位置表面鍍金。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種納米級薄膜圖案電化學(xué)刻蝕加工系統(tǒng)，其特征在于控制計算機(111)，具有根據(jù)所述微電流傳感器(33)的信號控制三維納米級平臺(71)Z軸運動的控制程序、根據(jù)加工圖案控制所述三維納米級平臺(71)X和Y軸運動的控制程序、根據(jù)濕度控制系統(tǒng)(5)中濕度計(51)信號控制氣體循環(huán)泵(54)啟停的控制程序、根據(jù)顯微視覺攝像機(8)控制升降平臺(72)運動的控制程序和根據(jù)所述顯微視覺攝像機(8)控制電動升降裝置(43)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種納米級薄膜圖案電化學(xué)刻蝕加工系統(tǒng)，其特征在于濕度控制系統(tǒng)(5)，其包括濕度計(51)、循環(huán)氣體出氣管(52)、循環(huán)氣體進氣管(53)、氣體循環(huán)泵(54)和純水瓶(55)，濕度計(51)位于所述支撐密閉箱(6)內(nèi)，其信號輸出端連接于所述控制計算機(111)，所述循環(huán)氣體出氣管(52)和循環(huán)氣體進氣管(53)的一端連接在所述支撐密閉箱(6)中固定罩(61)的外壁上；顯微視覺攝像機(8)，固定在支撐密閉箱(6)的運動罩(63)上，其視頻輸出端連接在所述控制計算機(111)上。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種納米級薄膜圖案電化學(xué)刻蝕加工系統(tǒng)，其特征在于電解液流出控制系統(tǒng)(4)，包括連接軟管(41)、錐形電解液容器(42)和電動升降裝置(43)，所述錐形電解液容器(42)放置于電動升降裝置的運動部分，且底部與連接軟管(41)連接，所述連接軟管(41)的長度是錐形電解液容器(42)底部與電解液入口(23)之間距離的兩倍以上，所述電動升降裝置(43)的電機控制端與控制計算機(111)連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米級薄膜圖案電化學(xué)刻蝕加工系統(tǒng)，其特征在于支撐密閉箱(6)，包括固定罩(61)、波紋軟連接(62)、運動罩(63)和支撐腿(64)組成，所述固定罩(61)通過所述支撐腿(64)固定在所述減震平臺(9)上，所述運動罩(63)固定在所述加工件放置基座(10)，且在加工過程中同其一起運動，所述固定罩(61)和所述運動罩(63)之間通過波紋軟連接(62)連接在一起；運動定位平臺(7)，包括三維納米級平臺(71)和升降平臺(72)組成，所述三維納米級平臺(71)和升降平臺(72)的控制端連接在控制計算機(111)上。