[實用新型]滴灌帶激光打孔裝置

有效

• 申請號: 201921832348.1
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN210731395U
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發明（設計）人: 劉培勇;彭濤;林恒;張金響
• 申請（專利權）人: 江蘇華源節水股份有限公司
• 主分類號: B23K26/382
• 分類號: B23K26/382;B23K26/70
• 代理公司: 北京淮海知識產權代理事務所(普通合伙) 32205
• 代理人: 楊曉亭

1.一種滴灌帶激光打孔裝置，其特征在于，包括電磁定位部分、永磁撐帶作業部分和電控部分；

所述的電磁定位部分包括均纏繞有導電繞組線圈的上電磁體(1)、下電磁體(2)、左電磁體(3)、右電磁體(4)、前環形電磁體(5)和后環形電磁體(6)；上電磁體(1)、下電磁體(2)、左電磁體(3)和右電磁體(4)均是沿前后方向設置的長條形結構，上電磁體(1)和下電磁體(2)上下平行對置設置、左電磁體(3)和右電磁體(4)左右平行對置設置，上電磁體(1)、下電磁體(2)、左電磁體(3)和右電磁體(4)共同圍成永磁柱容納空間；同軸設置的前環形電磁體(5)和后環形電磁體(6)前后對稱設置在永磁柱容納空間的前后兩端、且前環形電磁體(5)和后環形電磁體(6)的中軸線與永磁柱容納空間的幾何中心線共線設置；上電磁體(1)或下電磁體(2)內設有豎直設置的激光打孔槍安裝孔，激光打孔槍(8)固定安裝在激光打孔槍安裝孔內、且激光打孔槍(8)的激光發射口底端處于位于激光打孔槍安裝孔內的狀態；

所述的永磁撐帶作業部分包括設置在永磁柱容納空間內的長條形結構的永磁柱(7)，永磁柱(7)上設有與上電磁體(1)的底平面和下電磁體(2)的頂平面配合的工作平面，工作平面包括上下平行對稱設置的上工作平面和下工作平面；

所述的電控部分包括控制器、電磁場控制回路和激光打孔控制回路，控制器分別與上電磁體(1)、下電磁體(2)、左電磁體(3)、右電磁體(4)、前環形電磁體(5)和后環形電磁體(6)的導電繞組線圈電連接，控制器與激光打孔槍(8)電連接。

2.根據權利要求1所述的滴灌帶激光打孔裝置，其特征在于，永磁柱(7)的工作平面上對應激光打孔槍(8)的位置設有高反射膜(9)。

3.根據權利要求1或2所述的滴灌帶激光打孔裝置，其特征在于，本滴灌帶激光打孔裝置上還設有煙霧處理機構，煙霧處理機構包括負壓吸附管路和包括負壓氣泵的煙霧凈化部件，負壓吸附管路一端與永磁柱容納空間連通連接、另一端與煙霧凈化部件連接，煙霧凈化部件與電控部分的控制器電連接。

4.根據權利要求1或2所述的滴灌帶激光打孔裝置，其特征在于，永磁柱(7)的外形輪廓進行倒圓角處理；至少永磁柱(7)的后端設置成球面或錐形導向結構。

5.根據權利要求4所述的滴灌帶激光打孔裝置，其特征在于，永磁柱(7)沿前后方向的長度尺寸大于上電磁體(1)或下電磁體(2)的長度尺寸、且球面或錐形導向結構的外形尺寸不小于永磁柱(7)縱截面的外形尺寸，對應激光打孔槍(8)安裝位置的球面或錐形導向結構的上端或下端位置設有斜面導向結構，安裝有激光打孔槍(8)的上電磁體(1)或下電磁體(2)上設有與球面或錐形導向結構的斜面導向結構斜度配合的斜面結構。