[實用新型]硅片清洗用石英槽

有效

• 申請號: 201921444123.9
• 申請日: 2019-09-02
• 公開（公告）號: CN210586280U
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發明（設計）人: 高翔鷹;張少陽;裴文龍;陳晨
• 申請（專利權）人: 蘇州芯矽電子科技有限公司
• 主分類號: B08B13/00
• 分類號: B08B13/00;B08B3/08;B08B3/10;H01L21/673
• 代理公司: 南京艾普利德知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32297
• 代理人: 陸明耀

本實用新型揭示了一種硅片清洗用石英槽，包括具有方形結構的外槽和內槽，所述外槽和內槽套設呈雙層結構，所述內槽的槽口面低于所述外槽的槽口面，所述內槽的槽口位置為鋸齒結構，用于使所述內槽中的清洗液溢流至外槽中，所述外槽和內槽之間設置有循環管路，其特征在于：所述內槽中設置有用于放置硅片的支撐架，所述支撐架與所述內槽不接觸，所述支撐架由設置在所述外槽外側的立架所支撐。本實用新型的有益效果主要體現在：減少石英槽承載力，通過立架的支撐設置使得內部石英槽幾乎不受力，大大減少了內部石英槽的承載力；延長石英槽的使用壽命；輔助監測裝置提高安全性，解放人力。

技術領域

本實用新型涉及半導體材料技術領域，具體而言，尤其涉及一種硅片清洗用石英槽。

背景技術

在半導體行業中，硅片的清洗通常在石英槽中進行。石英槽一般包括石英槽體和設置在石英槽體內的熱電偶保護管，石英槽體的底部開設有排液口，將硅片清洗后的廢液從該排液口排出。清洗一般采用HF酸、H₂O₂等酸性溶液進行清洗，在清洗過程中生成一些產物沉淀在石英槽的底部，這樣需要經常清洗石英槽的內部，同時在清洗過程中易出現向石英槽內添加某種特殊的清洗液，由于該石英槽容積有限，只能從廢液排液口排出，難以實現清洗液的自動循環流動，造成資源的浪費。

如中國專利CN201110198571.7所述的一種硅片清洗用雙層石英槽，該雙層石英槽包括內槽和外槽兩部分，其中，內槽里面放置有待清洗的硅片，由于內槽需要直接承載大量硅片，長此以往內槽會產生應力性開裂或者破損，導致整個石英槽報廢。此外，該專利中未涉及用于監測內外槽中清洗液的情況的設備，缺少智能化裝置，增加了人力勞動且存在一定安全隱患。

實用新型內容

本實用新型的目的是克服現有技術存在的不足，提供一種硅片清洗用石英槽。

本實用新型的目的通過以下技術方案來實現：

一種硅片清洗用石英槽，包括具有方形結構的外槽和內槽，所述外槽和內槽套設呈雙層結構，所述內槽的槽口面低于所述外槽的槽口面，所述內槽的槽口位置為鋸齒結構，用于使所述內槽中的清洗液溢流至外槽中，所述外槽和內槽之間設置有循環管路；所述內槽中設置有用于放置硅片的支撐架，所述支撐架與所述內槽不接觸。所述支撐架由設置在所述外槽外側的立架所支撐。

優選的，所述支撐架為石英矩形框，兩長邊上對稱設置有用于卡設所述硅片的鋸齒凸起。

優選的，所述支撐架的兩短邊上分別固定設置有第一L型石英桿和第二L型石英桿，所述第一L型石英桿和第二L型石英桿的自由端均伸出所述外槽的橫截面并通過連接件夾緊固定于所述立架上。

優選的，所述外槽的槽口一側橫跨蓋設有一進液板，所述第一L型石英桿的自由端橫跨設置在所述進液板的上表面的上方。

優選的，所述進液板上設有進液孔和監測孔，所述進液孔可用于注液；所述監測孔插入輔助監測裝置。

優選的，所述外槽的一側底端設置有外槽循環及外排液管，所述外槽循環及外排液管與所述循環管路及一泵相連接后連通至所述內槽。

優選的，所述內槽的一側下部設置有用于與所述循環管路連通的內循環管和用于排出內槽液體的內排液管，所述內循環管的外端與所述泵相連。

優選的，所述內循環管的內端伸入至所述內槽中且管壁上設有大小均勻的出液孔。

優選的，所述外槽的一側上端設有安全管。

優選的，所述硅片清洗用石英槽的槽體內還設置有電熱偶護管。

本實用新型的有益效果主要體現在：

1、通過立架的支撐設置使得石英內槽幾乎不受力，大大減少了硅片對石英內槽的壓力，降低了內槽應力性開裂或者破損的風險；