[實用新型]一種雙平臺軌道式定位壓燙機

有效

• 申請號: 201921418579.8
• 申請日: 2019-08-29
• 公開（公告）號: CN210946188U
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發明（設計）人: 肖廷本;李俊納;李伸
• 申請（專利權）人: 蘇州賽客愛茵智能科技有限公司
• 主分類號: D06F71/00
• 分類號: D06F71/00;D06F71/36;D06F71/34;D06F71/32
• 代理公司: 蘇州翔遠專利代理事務所(普通合伙) 32251
• 代理人: 蘭仙梅

1.一種雙平臺軌道式定位壓燙機，其特征在于：包括底座，在所述底座的左右兩側對應設置有兩個壓燙機，分別為第一壓燙機和第二壓燙機，所述第一壓燙機和所述第二壓燙機中間存在間隔；所述第一壓燙機包括第一壓燙底板和第一壓燙壓板，所述第二壓燙機包括第二壓燙底板和第二壓燙壓板；所述底座上設置有一條直線導軌，所述第一壓燙底板和所述第二壓燙底板可移動地設置在所述直線導軌上，所述第一壓燙壓板和所述第二壓燙壓板位于所述直線導軌左右兩側的上方，同時所述第一壓燙壓板和所述第二壓燙壓板都連接伸縮氣缸。

2.根據權利要求1所述的一種雙平臺軌道式定位壓燙機，其特征在于：所述底座上設置有三個區域，位于所述第一壓燙壓板下方的直線導軌部位為第一壓燙區，位于所述第二壓燙壓板下方的直線導軌部位為第二壓燙區，位于所述第一壓燙機和所述第二壓燙機中間的直線軌道部位為定位區。

3.根據權利要求1所述的一種雙平臺軌道式定位壓燙機，其特征在于：所述第一壓燙機還包括第一支架，所述第二壓燙機還包括第二支架，所述第一支架和第二支架結構相同，都為7字形構造，所述第一支架和所述第二支架的底部固定在所述底座上，所述第一支架和所述第二支架的頂部設置有機罩殼，所述伸縮氣缸設置在機罩殼內。

4.根據權利要求1所述的一種雙平臺軌道式定位壓燙機，其特征在于：所述伸縮氣缸的伸縮桿一共設置有四根，四根所述伸縮桿均勻地分布在壓板的上表面。