[實用新型]一種雙面曝光機掩膜版的對準安裝系統

有效

• 申請號: 201921401474.1
• 申請日: 2019-08-27
• 公開（公告）號: CN210428092U
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發明（設計）人: 李明之;朱偉杰;肖福登
• 申請（專利權）人: 愛司凱科技股份有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 杭州君度專利代理事務所(特殊普通合伙) 33240
• 代理人: 王桂名

1.一種雙面曝光機掩膜版的對準安裝系統，其特征在于，其包括用于安裝上掩膜版的上框系統、用于安裝下掩膜版的對準系統、用于升降對準系統的Z軸系統和控制系統；所述的Z軸系統設于對準系統的兩側，上框系統位于對準系統上方；所述的控制系統分別與上框系統、對準系統和Z軸系統連接。

2.根據權利要求1所述的雙面曝光機掩膜版的對準安裝系統，其特征在于，所述的Z軸系統包括側板、伺服電機、絲桿和第一交叉滾子導軌；所述的伺服電機和絲桿安裝在側板上，伺服電機與絲桿傳動連接；所述的第一交叉滾子導軌與絲桿連接。

3.根據權利要求2所述的雙面曝光機掩膜版的對準安裝系統，其特征在于，所述的上框系統包括支架、外框、內框、氣缸、鋼板壓條、彈簧鋼板、上掩膜版和上掩膜版壓板；所述的支架位于外框的兩側且固定在側板頂部，氣缸固定在支架上，氣缸的缸桿與外框連接，內框設于外框內，內框的四周通過四片兩兩對稱的彈簧鋼板與外框連接，彈簧鋼板兩側通過鋼板壓條固定；所述的上掩膜版通過上掩膜版壓板固定在內框的內部，外框的兩側通過轉軸組件與支架連接。

4.根據權利要求3所述的雙面曝光機掩膜版的對準安裝系統，其特征在于，所述的對準系統包括下框組件、若干氣浮墊、若干對準單元和底座，所述的底座的兩側連接在第一交叉滾子導軌上，下框組件通過氣浮墊和對準單元安裝在底座上。

5.根據權利要求4所述的雙面曝光機掩膜版的對準安裝系統，其特征在于，所述下框組件包括工作面板、D型硅膠條和下掩膜版；所述的工作面板為中空結構，下掩膜版安裝在工作面板中間，D型硅膠條安裝在下掩膜版外圍的工作面板上，所述的氣浮墊和對準單元設于工作面板的底部，下掩膜版的四周設有抽真空口。

6.根據權利要求5所述的雙面曝光機掩膜版的對準安裝系統，其特征在于，所述的對準單元包括音圈電機、第二交叉滾子導軌、光柵尺、柔性連接板、中間滑臺、上滑臺和滑臺底座；所述的中間滑臺通過第二交叉滾子導軌與滑臺底座滑動連接，上滑臺與中間滑臺滑動連接，上滑臺與中間滑臺之間設有自鎖件，音圈電機與第二交叉滾子導軌驅動連接，光柵尺安裝在中間滑臺側部，柔性連接板安裝在上滑臺的上方，上滑臺和中間滑臺的移動方向相互垂直。

7.根據權利要求4所述的雙面曝光機掩膜版的對準安裝系統，其特征在于，所述的氣浮墊設有三個，其中兩個設置在工作面板同一側的兩端，另一個設置在與同一側平行的一側的中間位置。

8.根據權利要求7所述的雙面曝光機掩膜版的對準安裝系統，其特征在于，所述的對準單元設有三個，其中兩個設置在工作面板同一側兩個氣浮墊之間，另一個設置在與同一側垂直的一側的中間位置。