[實用新型]一種光刻機光源裝置有效
| 申請號: | 201921322791.4 | 申請日: | 2019-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN210954608U | 公開(公告)日: | 2020-07-07 |
| 發明(設計)人: | 唐陽明 | 申請(專利權)人: | 上海圖雙精密裝備有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 200000 上海市青浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光刻 光源 裝置 | ||
本實用新型提供一種光刻機光源裝置。所述一種光刻機光源裝置包括不銹鋼架和控制系統,不銹鋼架內表面通過螺釘與冷卻裝置固定連接,冷卻裝置一側與光源單元板組合架間隙配合。本實用新型提供的一種光刻機光源裝置通過采用控制系統,光電傳感器能夠通過光電效應來將光轉換為電流,用電流大小來表示光強,光電傳感器將數據轉換為電信號傳遞到處理器,處理器通過信號發射器將電磁波發射出去,外界控制設備接收電磁波,并且發射電磁波回到信號接收器,信號接收器接收信號傳導到處理器,處理器控制調光器來控制LED燈的亮度,解決了現有的光源裝置,使用者無法了解光源裝置內部所放出的光強,并且無法控制光強的問題。
技術領域
本實用新型涉及曝光機領域,尤其涉及一種光刻機光源裝置。
背景技術
光刻是制作半導體的關鍵制程,決定了線路的精密度。光刻設備是一種投影系統,由紫外光源、光學鏡片、對準系統等部件組裝而成。在半導體制作過程中,光刻設備會投射光束,穿過印著圖案的掩模及光學鏡片,將線路圖曝光在帶有光感涂層的硅晶圓上;通過蝕刻曝光或未受曝光的部份來形成溝槽,然后再進行沉積、蝕刻、摻雜,架構出不同材質的線路;此制程被一再重復,就能將數以十億計的MOSFET或其他晶體管,建構在硅晶圓上,形成一般所稱的集成電路。
現有的光源裝置,使用者無法了解光源裝置內部所放出的光強,并且無法控制光強的問題;現有的光源裝置發出的光的光斑分散且光斑之間相互覆蓋,導致能量分散,影響光刻精度的問題;現有的光源裝置散熱性能差,由于長時間工作LED燈會產生大量的熱,如果不能及時散熱會導致光刻機內部著火,存在使用隱患的問題。
因此,有必要提供一種光刻機光源裝置解決上述技術問題。
實用新型內容
本實用新型提供一種光刻機光源裝置,解決了現有的光源裝置,使用者無法了解光源裝置內部所放出的光強,并且無法控制光強的問題;現有的光源裝置發出的光的光斑分散且光斑之間相互覆蓋,導致能量分散,影響光刻精度的問題;現有的光源裝置散熱性能差,由于長時間工作LED燈會產生大量的熱,如果不能及時散熱會導致光刻機內部著火,存在使用隱患的問題。
為解決上述技術問題,本實用新型提供的一種光刻機光源裝置,包括不銹鋼架和控制系統,所述不銹鋼架內表面通過螺釘與冷卻裝置固定連接,所述冷卻裝置一側與光源單元板組合架間隙配合,所述不銹鋼架一側通過螺釘與光源單元板組合架固定連接,所述光源單元板組合架一側與透鏡間隙配合,所述透鏡一側通過螺釘與不銹鋼架固定連接,所述透鏡內表面通過螺釘與光電傳感器固定連接,所述透鏡外表面通過螺釘與處理器固定連接。
優選的,所述光源單元板組合架還包括光源單元板A、光源單元板B、光源單元板C、光源單元板D和固定塊,所述光源單元板A一端設置有固定塊,所述光源單元板B一端設置有固定塊,所述光源單元板C一端設置有固定塊,所述光源單元板D一端設置有固定塊,所述固定塊通過螺釘與光源單元板組合架固定連接。
優選的,所述光源單元板A還包括固定槽、LED燈和調光器,所述光源單元板A一側設置有固定槽,所述固定槽內表面與LED燈法蘭連接,所述LED 燈一側通過電線與調光器電性連接。
優選的,所述冷卻裝置還包括分層內隔板、冷卻板一、冷卻板二、循環水通道板A和冷卻板三,所述冷卻板一一端通過螺釘與冷卻板二固定連接,所述冷卻板一另一端通過螺釘與分層內隔板固定連接,所述冷卻板二一端通過螺釘與冷卻板三固定連接,所述冷卻板一一側通過螺釘與循環水通道板A固定連接,所述冷卻板二一側通過螺釘與循環水通道板A固定連接。
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