[實用新型]磁存儲器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921309034.3 | 申請日: | 2019-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN210110841U | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃嘉曄;俞文杰;劉強 | 申請(專利權(quán))人: | 上海新微技術(shù)研發(fā)中心有限公司 |
| 主分類號: | H01L43/08 | 分類號: | H01L43/08;H01L43/10;H01L27/22 |
| 代理公司: | 蘇州國卓知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32331 | 代理人: | 明志會 |
| 地址: | 201800 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁存儲器 | ||
1.一種磁存儲器件,包括
固定層、通道隔離層、自由層;
所述通道隔離層位于所述固定層和所述自由層之間;
其特征在于,
還包括非磁性結(jié)構(gòu),所述非磁性結(jié)構(gòu)位于所述自由層中,所述非磁性結(jié)構(gòu)與所述自由層的材料不同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁存儲器件,其特征在于,所述自由層具有相對的第一面和第二面,所述第二面較所述第一面遠離所述通道隔離層,所述非磁性結(jié)構(gòu)位于所述第二面表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁存儲器件,其特征在于,所述非磁性結(jié)構(gòu)為非中心對稱結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁存儲器件,其特征在于,所述非磁性結(jié)構(gòu)為環(huán)狀或帶狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁存儲器件,其特征在于,所述非磁性結(jié)構(gòu)貫穿所述自由層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁存儲器件,其特征在于,所述非磁性結(jié)構(gòu)至少有2個。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁存儲器件,其特征在于,所述非磁性結(jié)構(gòu)材料為鎂、鈦、鉻、銅氧/氮化物中的至少一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁存儲器件,其特征在于,所述自由層具有相對的第一面和第二面,所述第二面較所述第一面遠離所述通道隔離層,在所述第一面與所述通道隔離層中間有非磁性薄膜層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁存儲器件,其特征在于,還包括第一電極和第二電極;所述第一電極位于所述固定層下方,所述第二電極位于所述自由層上方。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁存儲器件,其特征在于,還包括半導(dǎo)體器件,所述半導(dǎo)體器件與所述固定層電連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海新微技術(shù)研發(fā)中心有限公司,未經(jīng)上海新微技術(shù)研發(fā)中心有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201921309034.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 磁存儲器元件、磁存儲器及磁存儲器的制造方法
- 磁存儲裝置和數(shù)據(jù)復(fù)制的裝置、系統(tǒng)、程序及方法
- MRAM體系結(jié)構(gòu)和利用所述體系結(jié)構(gòu)來制備MRAM存儲器的方法和系統(tǒng)
- 具有位于磁隧道結(jié)器件下面的位線的MRAM體系結(jié)構(gòu)
- 數(shù)據(jù)復(fù)制裝置、系統(tǒng)、方法
- 信息記錄方法和信息記錄裝置
- 半導(dǎo)體存儲器器件以及磁存儲器器件
- 一種磁存儲器的測試方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子裝置
- 制造磁阻堆疊設(shè)備的方法
- 一種基于雙勢壘結(jié)構(gòu)的磁存儲器件





