[實用新型]基于光場柵的位移測量裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921300999.6 | 申請日： | 2019-08-13 |
| 公開（公告）號： | CN210719020U | 公開（公告）日： | 2020-06-09 |
| 發(fā)明（設計）人： | 程方;葉瑞芳;蘇杭;崔長彩;余卿;王寅 | 申請（專利權(quán)）人： | 華僑大學 |
| 主分類號： | G01B11/02 | 分類號： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 廈門市首創(chuàng)君合專利事務所有限公司 35204 | 代理人： | 楊依展 |
| 地址： | 362000 福建省*** | 國省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基于 光場柵 位移 測量 裝置 | ||
1.基于光場柵的位移測量裝置，其特征在于：包括測量系統(tǒng)、線性位移工作平臺和光電探測器模塊；所述線性位移工作平臺和光電探測器模塊能固定在一起；所述測量系統(tǒng)包括系統(tǒng)光源、半透半反分光平面鏡、第一激光擴束準直器、第二激光擴束準直器、第一平面反射鏡和第二平面反射鏡，所述系統(tǒng)光源、半透半反分光平面鏡、第一激光擴束準直器、第二激光擴束準直器和第二平面反射鏡相對固定以構(gòu)成一個整體；所述第一平面反射鏡能相對該整體擺動以能調(diào)節(jié)偏轉(zhuǎn)角度，所述線性位移工作平臺能相對該整體平移和旋轉(zhuǎn)；所述半透半反分光平面鏡設置在系統(tǒng)光源之前，以使系統(tǒng)光源發(fā)出的一束光入射到半透半反分光平面鏡后被分為傳播方向互相垂直且能量相等的兩束相干光；所述第一激光擴束準直器和第二激光擴束準直器垂直布置且都適配半透半反分光平面鏡，以使兩束相干光分別經(jīng)第一激光擴束準直器與第二激光擴束準直器放大直徑；所述第一平面反射鏡設于第一激光擴束準直器和線性位移工作平臺間，所述第二平面反射鏡設于第二激光擴束準直器和線性位移工作平臺間，以通過第一平面反射鏡和第二平面反射鏡控制光路，使兩束相干光都打在線性位移工作平臺上表面以能產(chǎn)生兩個橢圓光斑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于光場柵的位移測量裝置，其特征在于：所述系統(tǒng)光源為半導體激光器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于光場柵的位移測量裝置，其特征在于：所述光電探測器模塊為光電探測器陣列。
4.基于光場柵的位移測量裝置，其特征在于：包括測量系統(tǒng)、線性位移工作平臺和光電探測器模塊；所述線性位移工作平臺和光電探測器模塊能固定在一起；所述測量系統(tǒng)包括系統(tǒng)光源、激光擴束準直器、第一平面反射鏡、第二平面反射鏡和半透半反分光棱鏡；所述系統(tǒng)光源、激光擴束準直器、第二平面反射鏡和半透半反分光棱鏡相對固定構(gòu)成一個整體；所述第一平面反射鏡能相對該整體擺動以能調(diào)節(jié)偏轉(zhuǎn)角度，所述線性位移工作平臺能相對該整體平移和旋轉(zhuǎn)；所述激光擴束準直器位于系統(tǒng)光源之前，以通過激光擴束準直器放大系統(tǒng)光源發(fā)出的一束光的光束直徑；所述半透半反分光棱鏡位于激光擴束準直器之前以將光束分為兩路能量相等且垂直的相干光；所述第一平面反射鏡與第二平面反射鏡配合半透半反分光棱鏡和線性位移工作平臺，以通過第一平面反射鏡與第二平面反射鏡令光路返回，再次經(jīng)過半透半反分光棱鏡后兩束光重新匯合形成干涉場，最終在線性位移工作平臺的上表面形成一個圓形光斑，其內(nèi)部為明暗相間的干涉條紋。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于光場柵的位移測量裝置，其特征在于：所述系統(tǒng)光源為半導體激光器。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于光場柵的位移測量裝置，其特征在于：所述光電探測器模塊為光電探測器陣列。
7.基于光場柵的位移測量裝置，其特征在于：包括測量系統(tǒng)、線性位移工作平臺和光電探測器模塊；所述線性位移工作平臺和光電探測器模塊能固定在一起；所述線性位移工作平臺包括兩塊表面光滑的玻璃板，兩塊玻璃板疊在一起，其中兩玻璃板具有背向的第一側(cè)和第二側(cè)，所述兩玻璃板第一側(cè)接觸，所述兩玻璃板第二側(cè)之間墊設墊塊，第二側(cè)的墊高使兩玻璃板之間形成一個微小夾角進而形成空氣劈尖；所述測量系統(tǒng)包括系統(tǒng)光源和激光擴束準直器；所述激光擴束準直器位于系統(tǒng)光源之前，以通過激光擴束準直器放大系統(tǒng)光源發(fā)出的一束光的光束直徑，在線性位移工作平臺上表面便形成一個橢圓光斑，其內(nèi)部為明暗相間的等厚干涉條紋。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于光場柵的位移測量裝置，其特征在于：所述系統(tǒng)光源為半導體激光器。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于光場柵的位移測量裝置，其特征在于：所述光電探測器模塊為光電探測器陣列。
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