[實(shí)用新型]一種旋轉(zhuǎn)靶材的垂直綁定裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201921290902.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-08-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN210314468U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高明;張花蕊;張虎;陳浩杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京航大微納科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/34 | 分類號(hào): | C23C14/34;B23K1/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 100089 北京市海淀區(qū)學(xué)*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 旋轉(zhuǎn) 垂直 綁定 裝置 | ||
本實(shí)用新型涉及一種旋轉(zhuǎn)靶材的垂直綁定裝置,包括襯管(1)、分段套設(shè)在襯管(1)上的至少兩個(gè)靶管(2)、所述襯管(1)內(nèi)設(shè)有內(nèi)加熱裝置(3),所述靶管(2)外設(shè)有外加熱裝置(4);其特征在于:所述內(nèi)加熱裝置(3)沿所述襯管(1)的延伸方向分為獨(dú)立控制的多個(gè)加熱段(31),所述加熱段(31)與所述靶管(2)一一對(duì)應(yīng)設(shè)置;所述外加熱裝置(4)與所述靶管(2)一一對(duì)應(yīng)設(shè)置,每個(gè)所述外加熱裝置(4)均為獨(dú)立控制。本實(shí)用新型的綁定裝置能夠防止焊料在綁定過(guò)程中沖破密封裝置。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及靶材綁定領(lǐng)域,尤其涉及一種旋轉(zhuǎn)靶材的垂直綁定裝置。
背景技術(shù)
磁控濺射鍍膜是目前鍍膜行業(yè)應(yīng)用廣泛的鍍膜沉積工藝。濺射鍍膜的原理是在真空條件下,通過(guò)電子槍氬離子對(duì)靶材表面進(jìn)行轟擊,靶材表面材料以分子、原子、離子或電子等形式被濺射出來(lái),飛濺到基板上沉積成膜。
濺射靶材通常有兩類:平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材,其中平面靶材的利用率只有20-30%,為了提高靶材的利用率,旋轉(zhuǎn)靶材被越來(lái)越多地應(yīng)用于實(shí)際制造中。并且隨著科技的進(jìn)步,越來(lái)越需要大尺寸的旋轉(zhuǎn)靶材。
對(duì)于陶瓷靶管和某些金屬靶管,由于其脆性大,很難用澆注法和噴涂方法生產(chǎn),只能用冷等靜壓加燒結(jié)或熱等靜壓方法生產(chǎn)出一節(jié)節(jié)靶管,然后通過(guò)綁定到襯管上形成大尺寸靶材。目前常用的綁定方式可參考公開(kāi)號(hào)為CN206366646U的中國(guó)實(shí)用新型專利《一種陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材邦定的金屬密封系統(tǒng)》,該種旋轉(zhuǎn)靶材包括金屬背管和套置在金屬背管外部的第一陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材,其中,金屬背管和第一陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材在底部由一堵頭密封形成空腔;金屬背管的管內(nèi)設(shè)置有內(nèi)加熱器,并且,第一陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材的外部設(shè)置有外加熱器;金屬背管和第一陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材之間的空腔內(nèi)澆鑄有低熔點(diǎn)金屬綁定層,現(xiàn)有技術(shù)中的低熔點(diǎn)金屬常用銦。采用這種方式進(jìn)行綁定,在依次綁定各個(gè)靶管的過(guò)程中,內(nèi)加熱器長(zhǎng)期保持加熱狀態(tài),要制成大尺寸靶材,需要綁定多個(gè)靶管,因此背管與靶管之間的空腔充填了很多銦焊料,這會(huì)導(dǎo)致銦焊料由于重力沖破密封裝置,導(dǎo)致焊料泄漏,而使得綁定失敗。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的現(xiàn)狀提供一種能夠防止焊料沖破密封裝置的旋轉(zhuǎn)靶材垂直綁定裝置。
本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為:該種旋轉(zhuǎn)靶材的垂直綁定裝置,包括襯管、分段套設(shè)在襯管上的至少兩個(gè)靶管、所述襯管內(nèi)設(shè)有內(nèi)加熱裝置,所述靶管外設(shè)有外加熱裝置;所述內(nèi)加熱裝置沿所述襯管的延伸方向分為獨(dú)立控制的多個(gè)加熱段,所述加熱段與所述靶管一一對(duì)應(yīng)設(shè)置;所述外加熱裝置與所述靶管一一對(duì)應(yīng)設(shè)置,每個(gè)所述外加熱裝置均為獨(dú)立控制。
為了便于進(jìn)行溫度控制,每個(gè)所述加熱段與第一溫控器對(duì)應(yīng)連接,每個(gè)所述外加熱裝置與第二溫控器對(duì)應(yīng)連接。
優(yōu)選的,所述內(nèi)加熱裝置包括加熱絲卷繞而成的加熱棒,以及套設(shè)在所述加熱棒外的導(dǎo)熱套。通過(guò)導(dǎo)熱套進(jìn)行導(dǎo)熱,加熱更為均勻。
優(yōu)選的,所述外加熱裝置為包覆在對(duì)應(yīng)的所述靶管外側(cè)的加熱套。
為了便于拆卸加熱套,在所述加熱套上設(shè)有可脫開(kāi)的連接結(jié)構(gòu)。
為了便于脫扣連接結(jié)構(gòu),所述連接結(jié)構(gòu)為對(duì)應(yīng)設(shè)置在所述加熱套兩端的公魔術(shù)貼和母魔術(shù)貼。
優(yōu)選的,所述加熱段長(zhǎng)度為20-600mm,進(jìn)一步優(yōu)選的,所述加熱段長(zhǎng)度為200-300mm。
當(dāng)生產(chǎn)大尺寸靶材時(shí),內(nèi)加熱裝置的長(zhǎng)度不足,為了便于提起內(nèi)加熱裝置對(duì)于襯管上端進(jìn)行加熱,所述內(nèi)加熱裝置的上端設(shè)有拉環(huán)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





