[實用新型]一種陶瓷釉漿研磨裝置

有效

• 申請號: 201921219150.6
• 申請日: 2019-07-31
• 公開（公告）號: CN210332839U
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發明（設計）人: 曹志新
• 申請（專利權）人: 宜都市鑫宜陶瓷有限公司
• 主分類號: B02C7/08
• 分類號: B02C7/08;B02C7/11;B02C7/12
• 代理公司: 重慶中之信知識產權代理事務所(普通合伙) 50213
• 代理人: 羅慶

本實用新型涉及一種陶瓷釉漿研磨裝置，包括內置研磨腔的機殼，研磨腔內設置有環狀定磨盤以及與定磨盤配合的動磨盤，且動磨盤位于定磨盤的環內，兩者之間存在研磨間隙；其中，動磨盤中心位置連接有向上延伸穿出安裝板的旋轉筒，且安裝板上安裝有驅動旋轉筒的電機；還包括從安裝筒上端插入并延伸到研磨腔底部的排料管，以及設置在機殼上連通研磨腔和外界的進料管，且進料管與研磨腔連通處所處高度高于定磨盤所處位置的最高點；還包括與排料管連接的釉漿泵。本實用新型通過釉漿泵向下腔室提供負壓，使得釉漿原料能夠順利經過研磨間隙的研磨后進入下腔室，最終通過排料管離開裝置，這樣保證了釉漿研磨的均勻度，在釉漿泵的作用下使生產效率得以提升。

技術領域

本實用新型涉及陶瓷釉漿生產設備技術領域，尤其涉及一種陶瓷釉漿研磨裝置。

背景技術

陶瓷產品在生產加工過程中，需要在制備好的陶瓷坯料表面噴涂釉漿，然后送入高溫爐進行燒制。所用的釉漿在噴涂前必須進行精細研磨，保證其粒度一致，否則會在后期燒制過程中發生爆裂，造成產品表面缺陷。

現有技術中一般采用研磨機對釉漿進行研磨，在研磨后還需要進行過濾，且在過濾過程中由于通常采用常壓過濾方式，導致其加工效率較低，不利于提高生產效率。

有鑒于此，需要提供一種避免以上問題的新型釉漿研磨裝置。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了克服現有技術的不足，提供了一種陶瓷釉漿研磨裝置，解決了現有技術中釉漿研磨加工效率低，不利于提高生產效率的問題。

本實用新型是通過以下技術方案實現：

一種陶瓷釉漿研磨裝置，包括內置研磨腔的機殼，且研磨腔上端通過安裝板封閉，研磨腔內設置有環狀定磨盤以及與定磨盤配合的動磨盤，且動磨盤位于定磨盤的環內，兩者之間存在研磨間隙；其中，動磨盤中心位置連接有向上延伸穿出安裝板的旋轉筒，且安裝板上安裝有驅動旋轉筒的電機；還包括從安裝筒上端插入并延伸到研磨腔底部的排料管，以及設置在機殼上連通研磨腔和外界的進料管，且進料管與研磨腔連通處所處高度高于定磨盤所處位置的最高點；還包括與排料管連接的釉漿泵。

上述技術方案中，定磨盤和動磨盤將研磨腔分隔為上腔室和下腔室，上下腔室之間通過研磨間隙連通，且由于研磨間隙較小，釉漿原料從進料管進入上腔室后，在定磨盤和都磨盤之上聚集，啟動電機驅動旋轉筒，進而帶動動磨盤相對定磨盤開始旋轉，同時啟動釉漿泵，下腔室由于釉漿泵的作用存在相對與上腔室的負壓，釉漿原料在負壓及旋轉的作用下向下移動，最終進入下腔室中，最終通過排料管離開裝置，而釉漿則在下移過程中被研磨。

與現有的技術相比，本實用新型有以下有益之處：

通過設置定磨盤和動磨盤將研磨腔分隔為上下兩個腔室，并通過釉漿泵向下腔室提供負壓，使得釉漿原料能夠順利經過研磨間隙的研磨后進入下腔室，最終通過排料管離開裝置，這樣保證了釉漿研磨的均勻度，且在釉漿泵的作用下使得生產效率得到了提升。

附圖說明

圖1為本實用新型的實施例的內部結構示意圖。

圖2為本實用新型的實施例的圖1中A處放大示意圖。

圖3為本實用新型的實施例的圖1中B處放大示意圖。

圖中：機殼1、研磨腔2、安裝板3、定磨盤4、動磨盤5、研磨間隙6、旋轉筒7、電機8、排料管9、進料管10、齒帶11、齒輪12、出料間隙13、支撐桿14、轉動盤15、上腔室16、下腔室17。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。